Thevaakumkatemasinprotsess jaguneb: vaakum-aurustuskatteks, vaakumpihustamiskatteks ja vaakum-ioonkatteks.
1, vaakum-aurustuskate
Vaakumtingimustes aurustage materjal, näiteks metall, metallisulam jne, seejärel asetage need substraadi pinnale, aurustamismeetodiks kasutatakse sageli takistuskuumutamist ja seejärel kattematerjali elektronkiirega pommitamist. aurustatakse gaasifaasi, seejärel sadestatakse substraadi pinnale, ajalooliselt on vaakum-aurustamine-sadestamine varasem PVD-meetodis kasutatud tehnoloogia.
2, pihustuskate
Gaas allutatakse hõõglahendusele (Ar) täidetud vaakumtingimustes. Sel hetkel muunduvad argooni (Ar) aatomid ioonid lämmastikuioonideks (Ar), ioonid kiirendatakse elektrivälja jõu toimel ja pommitavad katoodi sihtmärki, mis on valmistatud kattematerjalist, sihtmärk pihustatakse välja ja sadestatakse substraadi pinnale, pihustuskattes olevad juhuslikud ioonid, mis saadakse tavaliselt hõõglahendusega, on vahemikus 10-2pa kuni 10Pa, nii et pihustatud osakesed on kergesti põrkuvad. aluspinna poole lennates vaakumkambris olevate gaasimolekulidega, muutes liikumissuuna juhuslikuks ja ladestunud kile ühtlaseks.
3, ioonkate
Vaakumtingimustes, vaakumtingimustes, kasutas teatud plasma ionisatsiooni tehnikat kattematerjali aatomite osaliseks ioniseerimiseks ioonideks. Samal ajal toodetakse palju suure energiaga neutraalseid aatomeid, mis on substraadi suhtes negatiivselt kallutatud. Sel viisil ioonid ladestuvad substraadi pinnale sügava negatiivse kalde all, moodustades õhukese kile.
Postitusaeg: 23. märts 2023