CVD estaldura teknologiak ezaugarri hauek ditu:
1. CVD ekipoen prozesuaren funtzionamendua nahiko sinplea eta malgua da, eta proportzio desberdinetako film bakar edo konposatuak eta aleaziozko filmak presta ditzake;
2. CVD estaldurak aplikazio ugari ditu, eta hainbat metal edo metalezko film estaldura prestatzeko erabil daiteke;
3. Produkzio-eraginkortasun handia minutuko mikra gutxi batzuetatik ehunka mikrora bitarteko deposizio-tasengatik;
4. PVD metodoarekin alderatuta, CVD-k difrakzio-errendimendu hobea du eta oso egokia da forma konplexuak dituzten substratuak estaltzeko, hala nola zirrikituak, estalitako zuloak eta baita zulo itsuaren egiturak ere.Estaldura trinkotasun ona duen film batean xafla daiteke.Filma eratzeko prozesuan zehar tenperatura altua dela eta, eta filmaren substratuaren interfazearen atxikimendu sendoa dela eta, film geruza oso irmoa da.
5. Erradiazioak eragindako kaltea nahiko baxua da eta MOS zirkuitu integratuko prozesuekin integra daiteke.
——Artikulu hau Guangdong Zhenhua-k argitaratu du, ahutsean estaltzeko makinen fabrikatzailea
Argitalpenaren ordua: 2023-mar-29