1, ioi hutsezko estaldura teknologiaren printzipioa
Hutseko arkua deskargatzeko teknologia erabiliz hutseko ganbera batean, arku argia sortzen da katodoaren materialaren gainazalean, eta katodoaren materialaren gainean atomoak eta ioiak sortzen dira.Eremu elektrikoaren eraginez, atomo eta ioi izpiek piezaren gainazala bonbardatzen dute anodo gisa abiadura handian.Aldi berean, erreakzio-gas bat sartzen da huts-ganberan, eta propietate bikainak dituen estaldura-geruza bat sortzen da piezaren gainazalean.
2, ioi hutseko estalduraren ezaugarriak
(1) Estaldura-geruzaren atxikimendu ona, film-geruza ez da erraza erortzen.
(2) Estaldura ona eta gainazaleko estaldura hobetua.
(3) Estaldura-geruzaren kalitate ona.
(4) Deposizio-tasa handia eta film azkarren eraketa.
(5) Substratu material egokien eta estaldurarako film materialen aukera zabala
Eskala handiko arku anitzeko magnetron hatz-marken aurkako estaldura integratuko ekipamendua
Hatz-marken aurkako magnetron sputtering estaldura-makinak maiztasun ertaineko magnetron sputtering, arku anitzeko ioiaren eta AF teknologiaren konbinazioa hartzen du, hardware-industrian, mahai-ontzien hardwarean, titaniozko altzairu herdoilgaitzezko plakan, altzairu herdoilgaitzezko konketa eta altzairu herdoilgaitzezko plaka handien prozesatzeko.Film geruzaren atxikimendu ona, errepikakortasuna, dentsitatea eta uniformetasuna, irteera handia eta produktuaren etekin handia ditu.
Argitalpenaren ordua: 2022-07-2022