فناوری رسوب شیمیایی بخار پلاسما با قوس سیم داغ از تفنگ قوس سیم داغ برای انتشار پلاسمای قوس استفاده می کند که به اختصار فناوری قوس سیم داغ PECVD نامیده می شود.این فناوری شبیه به فناوری پوشش یونی تفنگ سیم داغ است، اما تفاوت این است که فیلم جامد به دست آمده توسط پوشش یونی تفنگ قوس سیم داغ از جریان الکترون نور قوس ساطع شده توسط تفنگ سیم داغ برای گرم کردن و تبخیر فلز استفاده می کند. بوته، در حالی که نور قوس سیم داغ PECVD با گازهای واکنشی مانند CH4 و H2 تغذیه می شود که برای رسوب گذاری فیلم های الماسی استفاده می شود.با تکیه بر جریان تخلیه قوس با چگالی بالا که توسط تفنگ قوس سیم داغ ساطع می شود، یون های گاز راکتیو برای به دست آوردن ذرات فعال مختلف از جمله یون های گاز، یون های اتمی، گروه های فعال و غیره برانگیخته می شوند.
در دستگاه PECVD قوس سیم داغ، دو سیم پیچ الکترومغناطیسی هنوز در خارج از اتاق پوشش نصب شده است که باعث می شود جریان الکترون با چگالی بالا در طول حرکت به سمت آند بچرخد و احتمال برخورد و یونیزاسیون بین جریان الکترون و گاز واکنش را افزایش دهد. .سیم پیچ الکترومغناطیسی همچنین می تواند به یک ستون قوس همگرا شود تا چگالی پلاسمایی کل محفظه رسوب را افزایش دهد.در پلاسمای قوس، چگالی این ذرات فعال زیاد است و باعث می‌شود که لایه‌های الماس و دیگر لایه‌های فیلم بر روی قطعه کار قرار بگیرند.
——این مقاله توسط Guangdong Zhenhua Technology منتشر شده استتولید کننده ماشین آلات پوشش نوری.
زمان ارسال: مه-05-2023