فرآیندهای دستگاه پوشش خلاء چیست؟اصل کار چیست؟

اینپوشش خلاءفرآیند ماشین به دو دسته تقسیم می شود: پوشش تبخیر خلاء، پوشش کندوپاش خلاء و پوشش یون خلاء.

1- پوشش تبخیر خلاء

در شرایط خلاء، مواد را تبخیر کنید، مانند فلز، آلیاژ فلز، و غیره، سپس آنها را روی سطح بستر قرار دهید، روش پوشش تبخیر اغلب استفاده از گرمایش مقاومتی است، و سپس بمباران پرتو الکترونی مواد پوشش، آنها را بسازید. تبخیر شده به فاز گاز، سپس بر روی سطح زیرلایه رسوب می‌کند، از نظر تاریخی، رسوب بخار خلاء فناوری قبلی مورد استفاده در روش PVD است.

2- پوشش پاشش

گاز تحت شرایط خلاء پر از (Ar) تحت یک تخلیه درخشان قرار می گیرد در این لحظه یون های آرگون (Ar) به یون های نیتروژن (Ar) تبدیل می شوند، یون ها با نیروی میدان الکتریکی شتاب می گیرند و هدف کاتدی را بمباران می کنند. از مواد پوشش ساخته شده است، هدف به بیرون پراکنده می شود و روی سطح زیرلایه رسوب می کند. یون های برخوردی در پوشش کندوپاش، که عموماً با تخلیه درخشان به دست می آیند، در محدوده 10-2pa تا 10Pa هستند، بنابراین ذرات پراکنده شده به راحتی برخورد می کنند. با مولکول‌های گاز در محفظه خلاء هنگام پرواز به سمت بستر، جهت حرکت را تصادفی می‌کند و فیلم رسوب‌شده را آسان می‌کند.

3- پوشش یونی

در شرایط خلاء، در شرایط خلاء، از یک تکنیک یونیزاسیون پلاسما برای یونیزه کردن جزئی اتم‌های مواد پوششی به یون استفاده کرد. در عین حال، اتم‌های خنثی با انرژی بالا تولید می‌شوند که به طور منفی روی بستر بایاس می‌شوند. به این ترتیب، یون‌ها روی سطح زیرلایه تحت یک بایاس منفی عمیق قرار می گیرند تا یک لایه نازک تشکیل دهند.