اصل کار دستگاه آبکاری یونی چیست؟

پوشش یونیدستگاه از نظریه ارائه شده توسط DM Mattox در دهه 1960 سرچشمه گرفت و آزمایشات مربوطه در آن زمان آغاز شد.تا سال 1971، چمبرز و دیگران فناوری آبکاری یونی پرتو الکترونی را منتشر کردند.فناوری آبکاری تبخیر واکنشی (ARE) در گزارش Bunshah در سال 1972، زمانی که انواع فیلم های فوق سخت مانند TiC و TiN تولید شدند، اشاره شد.همچنین در سال 1972، اسمیت و مولی از فناوری کاتد توخالی در فرآیند پوشش استفاده کردند.در دهه 1980، آبکاری یونی در چین سرانجام به سطح کاربرد صنعتی رسید و فرآیندهای پوششی مانند آبکاری یونی چند قوس خلاء و آبکاری یونی با تخلیه قوس به طور متوالی ظاهر شدند.

کل فرآیند کار آبکاری یونی خلاء به شرح زیر است: اول،پمپاتاق خلاء، و سپسصبر کنفشار خلاء به 4X10-³ Paیا بهترلازم است منبع تغذیه ولتاژ بالا وصل شود و یک ناحیه پلاسمایی با دمای پایین گاز تخلیه ولتاژ پایین بین بستر و اواپراتور ایجاد شود.الکترود زیرلایه را با ولتاژ بالای منفی 5000 ولت DC وصل کنید تا یک تخلیه درخشان کاتد ایجاد شود.یون های گاز بی اثر در نزدیکی ناحیه درخشش منفی تولید می شوند.آنها وارد ناحیه تاریک کاتد می شوند و توسط میدان الکتریکی شتاب می گیرند و سطح زیرلایه را بمباران می کنند.این یک فرآیند تمیز کردن است و سپس وارد فرآیند پوشش دهی شوید.از طریق اثر گرمایش بمباران، برخی از مواد آبکاری تبخیر می شوند.ناحیه پلاسما وارد پروتون ها می شود، با الکترون ها و یون های گاز بی اثر برخورد می کند و قسمت کوچکی از آنها یونیزه می شوند، این یون های یونیزه شده با انرژی بالا سطح فیلم را بمباران کرده و کیفیت فیلم را تا حدودی بهبود می بخشد.

اصل آبکاری یونی خلاء به این صورت است که: در محفظه خلاء، با استفاده از پدیده تخلیه گاز یا قسمت یونیزه شده ماده تبخیر شده، تحت بمباران یون های مواد بخار شده یا یون های گاز، به طور همزمان این مواد تبخیر شده یا واکنش دهنده های آنها را بر روی بستر رسوب دهید. برای به دست آوردن یک لایه نازکپوشش یونیدستگاهتبخیر خلاء، فناوری پلاسما و تخلیه درخشش گاز را ترکیب می کند که نه تنها کیفیت فیلم را بهبود می بخشد، بلکه دامنه کاربرد فیلم را نیز گسترش می دهد.از مزایای این فرآیند می توان به پراش قوی، چسبندگی خوب فیلم و مواد پوششی مختلف اشاره کرد.اصل آبکاری یونی برای اولین بار توسط DM Mattox ارائه شد.انواع زیادی از آبکاری یونی وجود دارد.رایج ترین نوع گرمایش تبخیر است، از جمله گرمایش مقاومتی، گرمایش با پرتو الکترونی، گرمایش پرتو الکترونی پلاسما، گرمایش القایی با فرکانس بالا و سایر روش های گرمایش.