Ionipinnoitekone sai alkunsa DM Mattoxin 1960-luvulla ehdottamasta teoriasta, ja vastaavat kokeet aloitettiin tuolloin;Vuoteen 1971 asti Chambers ja muut julkaisivat elektronisuihku-ionipinnoitustekniikan;Reaktiivinen haihdutuspinnoitus (ARE) teknologia tuotiin esiin Bunshahin raportissa vuonna 1972, jolloin valmistettiin superkovia kalvotyyppejä, kuten TiC ja TiN;Myös vuonna 1972 Smith ja Molley ottivat käyttöön onttokatoditekniikan pinnoitusprosessissa.1980-luvulle mennessä ionipinnoitus Kiinassa oli vihdoin saavuttanut teollisen sovelluksen tason, ja pinnoitusprosessit, kuten tyhjiökaari-ionipinnoitus ja kaaripurkausionipinnoitus, olivat ilmestyneet peräkkäin.
Tyhjiöionipinnoituksen koko työprosessi on seuraava: ensin,pumpputyhjiökammioon ja sittenodotatyhjiöpaine arvoon 4X10⁻ 3 Patai parempi, on tarpeen kytkeä korkeajännitevirtalähde ja rakentaa matalan lämpötilan plasma-alue pienjännitepurkauskaasusta substraatin ja höyrystimen väliin.Yhdistä substraattielektrodi 5000 V DC negatiivisella korkeajännitteellä muodostaaksesi katodin hehkupurkauksen.Inerttikaasu-ioneja syntyy lähellä negatiivista hehkualuetta.Ne menevät katodin pimeään alueeseen, ja sähkökenttä kiihdyttää niitä ja pommittaa substraatin pintaa.Tämä on puhdistusprosessi ja siirry sitten pinnoitusprosessiin.Pommituslämmityksen vaikutuksesta jotkut pinnoitusmateriaalit höyrystyvät.Plasma-alue tunkeutuu protoniin, törmää elektroneihin ja inerttikaasu-ioneihin, joista pieni osa on ionisoitunut. Nämä suuren energian omaavat ionisoidut ionit pommittavat kalvon pintaa ja parantavat kalvon laatua jossain määrin.
Tyhjiöionipinnoituksen periaate on: tyhjiökammiossa kaasupurkausilmiötä tai höyrystyneen materiaalin ionisoitua osaa käyttäen höyrystyneen materiaalin ionien tai kaasu-ionien pommituksen alaisena näitä höyrystyneitä aineita tai niiden reagoivia aineita kerrostetaan samanaikaisesti substraatille. ohuen kalvon saamiseksi.Ionipinnoitekoneyhdistää tyhjiöhaihdutuksen, plasmateknologian ja kaasun hehkupurkauksen, mikä paitsi parantaa kalvon laatua, myös laajentaa kalvon käyttöaluetta.Tämän prosessin etuja ovat vahva diffraktio, hyvä kalvon tarttuvuus ja erilaiset pinnoitusmateriaalit.DM Mattox ehdotti ensimmäisenä ionipinnoituksen periaatetta.Ionipinnoituksia on monenlaisia.Yleisin tyyppi on haihdutuslämmitys, mukaan lukien vastuslämmitys, elektronisädelämmitys, plasmaelektronisädelämmitys, korkeataajuinen induktiolämmitys ja muut lämmitysmenetelmät.
Postitusaika: 14.2.2023