HFCVD0606

La chambre de revêtement sous vide de l'équipement de dépôt chimique en phase vapeur adopte une structure de refroidissement à l'eau à double couche indépendante, qui est efficace et uniforme dans le refroidissement, et a une structure sûre et stable.L'équipement est conçu avec des portes doubles, plusieurs fenêtres d'observation et plusieurs interfaces d'extension, ce qui est pratique pour la connexion externe de périphériques auxiliaires tels que la mesure de température infrarouge, l'analyse spectrale, la surveillance vidéo et le thermocouple.Le concept de conception avancé rend la révision et la maintenance quotidiennes, le changement de configuration et la mise à niveau de l'équipement faciles et simples, et réduit efficacement les coûts d'utilisation et de mise à niveau.

Caractéristiques de l'équipement :

1. Les composants de gonflage de l'équipement comprennent principalement un débitmètre massique, une électrovanne et un réservoir de mélange de gaz, qui assurent le contrôle précis du débit de gaz de procédé, un mélange uniforme et une isolation sûre des différents gaz, et peuvent sélectionner les composants du système de gaz pour l'utilisation de source de gaz liquide, facilitent la sélection personnalisée d'une large gamme de sources de carbone liquide et l'utilisation en toute sécurité de diamants conducteurs synthétiques et de sources de bore liquide d'électrode.
2. L'ensemble d'extraction d'air est équipé d'une pompe à vide à palettes rotatives silencieuse et efficace et d'un système de pompe turbo moléculaire qui peut rapidement répondre à l'environnement de fond sous vide poussé.La jauge à vide composite avec jauge de résistance et jauge d'ionisation est utilisée pour la mesure du vide, ainsi que le système de jauge à film capacitif qui peut mesurer la pression de différents gaz de procédé dans une large plage.La pression de dépôt est entièrement contrôlée automatiquement par une vanne de régulation proportionnelle de haute précision.
3. Le composant d'eau de refroidissement est équipé d'une pression d'eau multicanal, d'un débit, d'une mesure de la température et d'une surveillance automatique du logiciel.Les différents composants de refroidissement sont indépendants les uns des autres, ce qui est pratique pour un diagnostic rapide des pannes.Toutes les branches ont des interrupteurs de vanne indépendants, ce qui est sûr et efficace.
4. Les composants de contrôle électrique adoptent un écran LCD d'interface homme-machine de grande taille et coopèrent avec le contrôle entièrement automatique PLC pour faciliter l'édition et l'importation de la formule de processus.La courbe graphique affiche visuellement les changements et les valeurs de divers paramètres, et les paramètres de l'équipement et du processus sont automatiquement enregistrés et archivés pour faciliter le traçage des problèmes et l'analyse statistique des données.
5.Le porte-pièces est équipé d'un servomoteur pour contrôler le levage et l'abaissement de la table de substrat.La table de substrat en graphite ou en cuivre rouge peut être sélectionnée.La température est mesurée par un thermocouple.
6.Les composants du rack peuvent être conçus dans leur ensemble ou séparément selon les exigences du client pour répondre aux exigences de manipulation particulières des clients.
7.Les composants de la plaque d'étanchéité sont beaux et élégants.Les plaques d'étanchéité dans différentes zones de modules fonctionnels de l'équipement peuvent être rapidement démontées ou ouvertes et fermées indépendamment, ce qui est très pratique à utiliser.

L'équipement CVD à filament chaud convient au dépôt de matériaux en diamant, y compris le revêtement en film mince, le film épais autoportant, le diamant microcristallin et nanocristallin, le diamant conducteur, etc. Il est principalement utilisé pour le revêtement protecteur résistant à l'usure des outils de coupe en carbure cémenté, matériaux semi-conducteurs tels que le silicium et le carbure de silicium, le revêtement de dissipation thermique des appareils, l'électrode de diamant conducteur dopé au bore, la désinfection à l'ozone de l'eau électrolytique ou le traitement des eaux usées.