La technologie de revêtement CVD a les caractéristiques suivantes :
1. Le fonctionnement du processus de l'équipement CVD est relativement simple et flexible, et il peut préparer des films simples ou composites et des films d'alliage avec des proportions différentes;
2. Le revêtement CVD a une large gamme d'applications et peut être utilisé pour préparer divers revêtements de métal ou de film métallique;
3. Efficacité de production élevée grâce à des taux de dépôt allant de quelques microns à des centaines de microns par minute ;
4. Comparé à la méthode PVD, le CVD a de meilleures performances de diffraction et convient parfaitement au revêtement de substrats de formes complexes, telles que des rainures, des trous revêtus et même des structures de trous borgnes.Le revêtement peut être plaqué en un film avec une bonne compacité.En raison de la température élevée pendant le processus de formation du film et de la forte adhérence sur l'interface du substrat du film, la couche de film est très ferme
5. Les dommages causés par le rayonnement sont relativement faibles et peuvent être intégrés aux processus de circuits intégrés MOS.
——Cet article est publié par Guangdong Zhenhua, unfabricant de machines de revêtement sous vide
Heure de publication : 29 mars 2023