1. Le taux d'évaporation affectera les propriétés du revêtement évaporé
Le taux d'évaporation a une grande influence sur le film déposé.Parce que la structure de revêtement formée par un faible taux de dépôt est lâche et facile à produire un dépôt de grosses particules, il est très sûr de choisir un taux d'évaporation plus élevé pour assurer la compacité de la structure de revêtement.Lorsque la pression de gaz résiduel dans la chambre à vide est constante, le taux de bombardement du substrat est une valeur constante.Par conséquent, le gaz résiduel contenu dans le film déposé après avoir sélectionné une vitesse de dépôt plus élevée sera réduit, réduisant ainsi la réaction chimique entre les molécules de gaz résiduel et les particules de film évaporées.Par conséquent, la pureté du film déposé peut être améliorée.Il est à noter que si la vitesse de dépôt est trop rapide, cela peut augmenter la contrainte interne du film, cela va augmenter les défauts du film, et même conduire à la rupture du film.En particulier, dans le processus de placage par évaporation réactive, afin de faire réagir complètement le gaz de réaction avec les particules du matériau du film d'évaporation, vous pouvez sélectionner une vitesse de dépôt inférieure.Bien sûr, différents matériaux choisissent différents taux d'évaporation.À titre d'exemple pratique, le dépôt du film réfléchissant. Si l'épaisseur du film est de 600 × 10-8 cm et que le temps d'évaporation est de 3 s, la réflectivité est de 93 %.Cependant, si le taux d'évaporation est ralenti dans la même condition d'épaisseur, il faut 10 minutes pour terminer le dépôt du film.A ce moment, l'épaisseur du film est la même.Cependant, la réflectivité a chuté à 68 %.
2. La température du substrat aura un effet sur le revêtement d'évaporation
La température du substrat a une grande influence sur le revêtement d'évaporation.Les molécules de gaz résiduelles adsorbées sur la surface du substrat à haute température du substrat sont faciles à éliminer.En particulier, l'élimination des molécules de vapeur d'eau est plus importante.De plus, à des températures plus élevées, il n'est pas seulement facile de favoriser la transformation de l'adsorption physique en adsorption chimique, augmentant ainsi la force de liaison entre les particules.De plus, il peut également réduire la différence entre la température de recristallisation des molécules de vapeur et la température du substrat, réduisant ou éliminant ainsi la contrainte interne sur l'interface à base de film.De plus, étant donné que la température du substrat est liée à l'état cristallin du film, il est souvent facile de former des revêtements amorphes ou microcristallins dans des conditions de faible température du substrat ou d'absence de chauffage.Au contraire, lorsque la température est élevée, il est facile de former un revêtement cristallin.L'augmentation de la température du substrat est également propice à l'amélioration des propriétés mécaniques du revêtement.Bien entendu, la température du substrat ne doit pas être trop élevée pour éviter l'évaporation du revêtement.
3. La pression de gaz résiduelle dans la chambre à vide affectera les propriétés du film
La pression du gaz résiduel dans la chambre à vide a une grande influence sur les performances de la membrane.Les molécules de gaz résiduelles avec une pression trop élevée ne sont pas seulement faciles à entrer en collision avec les particules en évaporation, ce qui réduira l'énergie cinétique des personnes sur le substrat et affectera l'adhérence du film.De plus, une pression de gaz résiduel trop élevée affectera sérieusement la pureté du film et réduira les performances du revêtement.
4. Effet de la température d'évaporation sur le revêtement d'évaporation
L'effet de la température d'évaporation sur les performances de la membrane est illustré par le changement du taux d'évaporation avec la température.Lorsque la température d'évaporation est élevée, la chaleur de vaporisation diminue.Si le matériau de la membrane est évaporé au-dessus de la température d'évaporation, même un léger changement de température peut provoquer un changement brusque du taux d'évaporation du matériau de la membrane.Par conséquent, il est très important de contrôler la température d'évaporation avec précision lors du dépôt du film pour éviter un gradient de température important lorsque la source d'évaporation est chauffée.Pour le matériau du film facile à sublimer, il est également très important de sélectionner le matériau lui-même comme élément chauffant pour l'évaporation et d'autres mesures.
5. L'état de nettoyage du substrat et de la chambre de revêtement affectera les performances du revêtement
L'effet de la propreté du substrat et de la chambre de revêtement sur les performances du revêtement ne peut être ignoré.Cela affectera non seulement sérieusement la pureté du film déposé, mais réduira également l'adhérence du film.Par conséquent, la purification du substrat, le traitement de nettoyage de la chambre de revêtement sous vide et de ses composants associés (tels que le cadre du substrat) et le dégazage de surface sont tous des processus indispensables dans le processus de revêtement sous vide.
Heure de publication : 28 février 2023