Revêtement ioniquemachine provient de la théorie proposée par DM Mattox dans les années 1960, et les expériences correspondantes ont commencé à cette époque;Jusqu'en 1971, Chambers et d'autres ont publié la technologie du placage ionique par faisceau d'électrons ;La technologie de placage par évaporation réactive (ARE) a été soulignée dans le rapport Bunshah en 1972, lorsque des types de films super-durs tels que TiC et TiN ont été produits;Toujours en 1972, Smith et Molley ont adopté la technologie de la cathode creuse dans le processus de revêtement.Dans les années 1980, le placage ionique en Chine avait finalement atteint le niveau d'application industrielle, et les procédés de revêtement tels que le placage ionique multi-arc sous vide et le placage ionique à décharge d'arc étaient apparus successivement.
L'ensemble du processus de travail du placage ionique sous vide est le suivant : premièrement,pompela chambre à vide, puisattendezla pression du vide à 4X10 ⁻ ³ Paou mieux, il est nécessaire de connecter l'alimentation haute tension et de construire une zone de plasma basse température de gaz de décharge basse tension entre le substrat et l'évaporateur.Connectez l'électrode de substrat avec une haute tension négative de 5000V DC pour former une décharge luminescente de la cathode.Des ions de gaz inerte sont générés près de la zone de lueur négative.Ils pénètrent dans la zone sombre de la cathode et sont accélérés par le champ électrique et bombardent la surface du substrat.Il s'agit d'un processus de nettoyage, puis entrez dans le processus de revêtement.Sous l'effet du chauffage par bombardement, certains matériaux de placage sont vaporisés.La zone de plasma pénètre dans les protons, entre en collision avec des électrons et des ions de gaz inerte, et une petite partie d'entre eux sont ionisés. Ces ions ionisés à haute énergie bombarderont la surface du film et amélioreront dans une certaine mesure la qualité du film.
Le principe du placage ionique sous vide est le suivant : dans la chambre à vide, en utilisant le phénomène de décharge de gaz ou de la partie ionisée du matériau vaporisé, sous le bombardement des ions du matériau vaporisé ou des ions de gaz, déposer simultanément ces substances vaporisées ou leurs réactifs sur le substrat pour obtenir un film mince.Le revêtement ioniquemachinecombine l'évaporation sous vide, la technologie plasma et la décharge luminescente au gaz, ce qui améliore non seulement la qualité du film, mais élargit également la gamme d'applications du film.Les avantages de ce procédé sont une forte diffraction, une bonne adhérence du film et divers matériaux de revêtement.Le principe du placage ionique a été proposé pour la première fois par DM Mattox.Il existe de nombreux types de placage ionique.Le type le plus courant est le chauffage par évaporation, y compris le chauffage par résistance, le chauffage par faisceau d'électrons, le chauffage par faisceau d'électrons plasma, le chauffage par induction à haute fréquence et d'autres méthodes de chauffage.
Heure de publication : 14 février 2023