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Nouvelles de l'industrie
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Processus de revêtement ionique à cathode creuse
Le processus de revêtement ionique de la cathode creuse est le suivant : 1, placez les lingots de Chin dans l'effondrement.2、Montage de la pièce.3, après évacuation à 5 × 10-3 Pa, du gaz argon est introduit dans la chambre de revêtement à partir du tube d'argent et le niveau de vide est d'environ 100 Pa.4, allumez la puissance de polarisation.5...En savoir plus -
Marché lucratif des équipements de revêtement optique: Démonstration d'un énorme potentiel de vente
L'industrie du revêtement optique a connu une croissance importante au fil des ans en raison des progrès technologiques, de la demande croissante d'optiques hautes performances et de l'industrialisation rapide.Par conséquent, le marché mondial des équipements de revêtement optique est en plein essor, créant d'énormes opportunités pour les entreprises de ...En savoir plus -
Analyse des avantages et des inconvénients de l'évaporation par faisceau d'électrons
introduire : dans le domaine de la technologie de dépôt de couches minces, l'évaporation par faisceau d'électrons est une méthode importante utilisée dans diverses industries pour produire des couches minces de haute qualité.Ses propriétés uniques et sa précision inégalée en font un choix attractif pour les chercheurs et les industriels.Cependant, comme un...En savoir plus -
Dépôt assisté par faisceau d'ions et source d'ions à faible énergie
1. Le dépôt assisté par faisceau d'ions utilise principalement des faisceaux d'ions à faible énergie pour aider à la modification de surface des matériaux.(1) Caractéristiques du dépôt assisté par ions Pendant le processus de revêtement, les particules de film déposées sont bombardées en continu par des ions chargés provenant de la source d'ions à la surface de ...En savoir plus -
Couleur du film décoratif
Le film lui-même réfléchit ou absorbe sélectivement la lumière incidente, et sa couleur est le résultat des propriétés optiques du film.La couleur des films minces est générée par la lumière réfléchie, donc deux aspects doivent être pris en compte, à savoir la couleur intrinsèque générée par les caractéristiques d'absorption ...En savoir plus -
Introduction du principe PVD
Introduction : Dans le monde de l'ingénierie de surface avancée, le dépôt physique en phase vapeur (PVD) apparaît comme une méthode incontournable pour améliorer les performances et la durabilité de divers matériaux.Vous êtes-vous déjà demandé comment fonctionne cette technique de pointe ?Aujourd'hui, nous plongeons dans la mécanique complexe de P ...En savoir plus -
Technologie de revêtement optique : effets visuels améliorés
Dans le monde trépidant d'aujourd'hui, où le contenu visuel a beaucoup d'influence, la technologie de revêtement optique joue un rôle important dans l'amélioration de la qualité de divers écrans.Des smartphones aux écrans de télévision, les revêtements optiques ont révolutionné la façon dont nous percevons et expérimentons le contenu visuel....En savoir plus -
Amélioration du revêtement de pulvérisation magnétron avec une alimentation électrique à décharge d'arc
Le revêtement par pulvérisation magnétron est réalisé en décharge luminescente, avec une faible densité de courant de décharge et une faible densité de plasma dans la chambre de revêtement.Cela rend la technologie de pulvérisation magnétron présente des inconvénients tels qu'une faible force de liaison du substrat de film, un faible taux d'ionisation du métal et un faible taux de dépôt ...En savoir plus -
Utilisation de la décharge RF
1. Bénéfique pour la pulvérisation et le placage du film isolant.Le changement rapide de polarité des électrodes peut être utilisé pour pulvériser directement des cibles isolantes afin d'obtenir des films isolants.Si une source d'alimentation CC est utilisée pour pulvériser et déposer un film isolant, le film isolant bloquera les ions positifs de l'ent...En savoir plus -
Traitement thermique chimique ionique basse température
1. Température de traitement thermique chimique traditionnel Les processus de traitement thermique chimique traditionnels courants comprennent la carburation et la nitruration, et la température du processus est déterminée selon le diagramme de phase Fe-C et le diagramme de phase Fe-N.La température de carburation est d'environ 930 ° C, et th ...En savoir plus -
Caractéristiques techniques du revêtement par évaporation sous vide
1. Le processus de revêtement par évaporation sous vide comprend l'évaporation des matériaux du film, le transport des atomes de vapeur dans un vide poussé et le processus de nucléation et de croissance des atomes de vapeur à la surface de la pièce.2. Le degré de vide de dépôt du revêtement par évaporation sous vide est élevé, généra...En savoir plus -
Types de revêtements durs
Le TiN est le premier revêtement dur utilisé dans les outils de coupe, avec des avantages tels qu'une résistance élevée, une dureté élevée et une résistance à l'usure.C'est le premier matériau de revêtement dur industrialisé et largement utilisé, largement utilisé dans les outils revêtus et les moules revêtus.Le revêtement dur TiN a été initialement déposé à 1000 ℃ ...En savoir plus -
Caractéristiques de la modification de la surface du plasma
Un plasma à haute énergie peut bombarder et irradier des matériaux polymères, cassant leurs chaînes moléculaires, formant des groupes actifs, augmentant l'énergie de surface et générant une gravure.Le traitement de surface au plasma n'affecte pas la structure interne et les performances du matériau en vrac, mais seulement de manière significative c ...En savoir plus -
Le processus de revêtement d'ions à source de petit arc
Le processus de revêtement ionique à source d'arc cathodique est fondamentalement le même que les autres technologies de revêtement, et certaines opérations telles que l'installation de pièces et l'aspiration ne sont plus répétées.1. Nettoyage par bombardement des pièces Avant le revêtement, du gaz argon est introduit dans la chambre de revêtement avec un...En savoir plus -
Caractéristiques et méthodes de génération du flux d'électrons d'arc
1. Caractéristiques du flux d'électrons de la lumière d'arc La densité du flux d'électrons, du flux d'ions et des atomes neutres à haute énergie dans le plasma d'arc généré par la décharge d'arc est beaucoup plus élevée que celle de la décharge luminescente.Il y a plus d'ions gazeux et d'ions métalliques ionisés, d'atomes excités à haute énergie, et de divers gro actifs...En savoir plus
