L'équipement de revêtement composite de pulvérisation magnétron et de revêtement ionique multi-arc cathodique peut fonctionner séparément et simultanément ;peut être déposé et préparé un film métallique pur, un film composé de métal ou un film composite;peut être une seule couche de film et un film composite multicouche.
Ses avantages comme suit :
Il combine non seulement les avantages de divers revêtements ioniques et prend en compte la préparation et le dépôt de couches minces pour divers domaines d'application, mais permet également le dépôt et la préparation de films monolithiques multicouches ou de films composites multicouches dans le même vide. chambre de revêtement en même temps.
Les applications des couches de film déposées sont largement utilisées, ses technologies se présentent sous diverses formes, les plus typiques étant les suivantes :
(1) Le composé de la pulvérisation magnétron hors équilibre et de la technologie de placage ionique cathodique.
Son dispositif est illustré comme suit.Il s'agit d'un équipement de revêtement composé d'une cible de magnétron colonnaire et d'un revêtement ionique à arc cathodique planaire, qui convient à la fois au revêtement de film composé d'outil et au revêtement de film décoratif.Pour le revêtement d'outils, le revêtement ionique à arc cathodique est d'abord utilisé pour le revêtement de la couche de base, puis la cible de magnétron de colonne est utilisée pour le dépôt de nitrure et d'autres couches de film afin d'obtenir un film de surface d'outil de traitement de haute précision.
Pour le revêtement décoratif, les films décoratifs TiN et ZrN peuvent d'abord être déposés par revêtement à l'arc cathodique, puis dopés avec du métal à l'aide de cibles magnétron, et l'effet de dopage est très bon.
(2) Le composé des techniques de revêtement ionique à l'arc à magnétron à double plan et à cathode à colonne.L'appareil est illustré comme suit.Il est utilisé la technologie avancée de cible jumelle, lorsque deux cibles jumelles côte à côte liées à l'alimentation moyenne fréquence, il surmonte non seulement l'empoisonnement cible de la pulvérisation CC, le feu et d'autres inconvénients;et peut déposer un film de qualité oxyde Al203, SiO2, de sorte que la résistance à l'oxydation des pièces revêtues a augmenté et s'est améliorée.Cible multi-arc colonnaire installée au centre de la chambre à vide, le matériau cible peut être utilisé Ti et Zr, non seulement pour maintenir les avantages du taux de dissociation multi-arc élevé, du taux de dépôt, mais peut également réduire efficacement les "gouttelettes" dans le processus de dépôt de cible multi-arc petit plan, peut déposer et préparer une faible porosité de films métalliques, des films composés.Si Al et Si sont utilisés comme matériaux cibles pour les cibles de magnétron planaires jumelles installées à la périphérie, des films de métal-céramique Al203 ou Si0 peuvent être déposés et préparés.De plus, plusieurs petits plans de source d'évaporation multi-arc peuvent être installés à la périphérie, et son matériau cible peut être Cr ou Ni, et des films métalliques et des films composites multicouches peuvent être déposés et préparés.Par conséquent, cette technologie de revêtement composite est une technologie de revêtement composite avec de multiples applications.
Heure de publication : 08 novembre 2022