① Goede kontrolearberens en repeatability fan film dikte
Of de filmdikte kin wurde regele op in foarbepaalde wearde wurdt filmdikte kontrolearberens neamd.De fereaske film dikte kin wurde werhelle foar in protte kearen, dat wurdt neamd film dikte repeatability.Because de discharge hjoeddeistige en doel hjoeddeistige fan fakuüm sputtering coating kinne wurde regele apart.Dêrom, de dikte fan sputtered film is kontrolearber, en de film mei foarbeskaat dikte kin wurde dellein betrouber.Derneist kin de sputtercoating in film krije mei unifoarme dikte op in grut oerflak.
② Sterke adhesion tusken film en substraat
De enerzjy fan sputtered atomen is 1-2 oarders fan grutte heger as dy fan ferdampte atomen.De enerzjykonverzje fan 'e sputtered atomen mei hege enerzjy dy't op it substraat ôfset binne is folle heger as dy fan' e ferdampte atomen, dy't hegere waarmte generearje en de adhesion tusken de sputtered atomen en it substraat ferbettert.Dêrneist produsearje guon hege-enerzjy sputtered atomen ferskillende graden fan ynjeksje, foarmje in pseudodiffusion laach op it substraat.Dêrneist wurdt it substraat altyd skjinmakke en aktivearre yn 'e plasmaregio tidens it filmfoarmingsproses, wat de sputterende atomen mei swakke adhesion ferwideret, en it substraatflak reinigt en aktivearret.Dêrom hat de sputtered film sterke adhesion oan it substraat.
③ Nije materiaalfilm oars as doel kin wurde taret
As reaktyf gas wurdt yntrodusearre tidens sputterjen om it te reagearjen mei it doel, kin in nije materiaalfilm folslein oars as it doel krigen wurde.Bygelyks, silisium wurdt brûkt as it sputterende doel, en soerstof en argon wurde tegearre yn 'e fakuümkeamer pleatst.Nei sputtering kin SiOz isolearjende film wurde krigen.Mei help fan titanium as de sputtering doel, stikstof en argon wurde set yn de fakuüm keamer tegearre, en de faze TiN gouden-lykas film kin wurde krigen nei sputtering.
④ Hege suverens en goede kwaliteit fan film
Sûnt d'r is gjin kroes komponint yn de sputtering film tarieding apparaat, de komponinten fan de kroes heater materiaal sil net wurde mingd yn de sputtering film laach.De neidielen fan sputterende coating binne dat de filmfoarmjende snelheid stadiger is as dy fan ferdampingscoating, de substraattemperatuer is heger, it is maklik te beynfloedzjen troch ûnreinensgas, en de apparaatstruktuer is komplekser.
Dit artikel wurdt publisearre troch Guangdong Zhenhua, in fabrikant fanvacuum coating apparatuer
Post tiid: Mar-09-2023