Vacuum magnetron sputtering is benammen geskikt foar reaktive ôfsettingscoatings.Yn feite, dit proses kin deponearje tinne films fan alle okside, carbid, en nitride materialen.Dêrnjonken is it proses ek benammen geskikt foar it dellizzen fan mearlaachige filmstruktueren, ynklusyf optyske ûntwerpen, kleurfilms, wearbestindige coatings, nano-laminaten, superlatticecoatings, isolearjende films, ensfh. deposition foarbylden binne ûntwikkele foar in ferskaat oan optyske film laach materialen.Dizze materialen omfetsje transparante conductive materialen, semiconductors, polymers, oksides, carbides, en nitrides, wylst fluoriden wurde brûkt yn prosessen lykas evaporative coating.
It wichtichste foardiel fan it magnetron sputtering proses is it brûken fan reaktive of net-reaktive coating prosessen te deponearje lagen fan dizze materialen en goed kontrôle fan de laach gearstalling, film dikte, film dikte uniformiteit en meganyske eigenskippen fan de laach.It proses hat de folgjende skaaimerken.
1, Grutte ôfsettingsrate.Troch it brûken fan hege-snelheid magnetron elektrodes, in grutte ion flow kin wurde krigen, effektyf ferbetterjen de deposition rate en sputtering taryf fan dit coating proses.Yn ferliking mei oare sputtering coating prosessen, magnetron sputtering hat in hege kapasiteit en hege opbringst, en wurdt in soad brûkt yn ferskate yndustriële produksje.
2, Hege macht effisjinsje.Magnetron-sputterdoel kieze oer it algemien de spanning binnen it berik fan 200V-1000V, meastentiids is 600V, om't de spanning fan 600V krekt binnen it heechste effektive berik fan machteffisjinsje is.
3. Low sputtering enerzjy.De magnetron-doelspanning wurdt leech tapast, en it magnetyske fjild beheint it plasma tichtby de kathode, wat foarkomt dat dieltsjes opladen mei hegere enerzjy op it substraat lansearje.
4, Low substraat temperatuer.De anode kin brûkt wurde om de elektroanen fuort te lieden dy't ûntstien binne tidens de ûntlading, de substraatstipe is net nedich om te foltôgjen, wat it elektroanenbombardemint fan it substraat effektyf kin ferminderje.Sa is de substraattemperatuer leech, wat tige ideaal is foar guon plestiksubstraten dy't net heul resistint binne foar coating mei hege temperatueren.
5, Magnetron sputtering doel oerflak etsen is net unifoarm.Magnetron sputtering doel oerflak etsen ûnjildich wurdt feroarsake troch de oneffen magnetysk fjild fan it doel.De lokaasje fan it doel-etsingsfrekwinsje is grutter, sadat it effektive gebrûksnivo fan it doel leech is (allinich 20-30% gebrûksnivo).Dêrom, om it doelbenutting te ferbetterjen, moat de magnetyske fjildferdieling troch bepaalde middels feroare wurde, of it brûken fan magneten dy't yn 'e kathode bewege kinne ek de doelbenutting ferbetterje.
6, gearstalde doel.Kin meitsje gearstalde doel coating alloy film.Op it stuit, it brûken fan gearstalde magnetron doel sputtering proses is mei súkses coated op Ta-Ti alloy, (Tb-Dy) -Fe en Gb-Co alloy film.Composite doel struktuer hat fjouwer soarten, respektivelik, binne de rûne ynlein doel, fjouwerkant ynlein doel, lyts fjouwerkant ynlein doel en sektor ynlein doel.It gebrûk fan 'e sektorynleine doelstruktuer is better.
7. Breed oanbod fan applikaasjes.Magnetron sputterproses kin in protte eleminten deponearje, de gewoane binne: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, ensfh.
Magnetron sputtering is ien fan 'e meast brûkte coatingprosessen om films fan hege kwaliteit te krijen.Mei in nije kathode hat it hege doelbenutting en hege ôfsettingsrate.Guangdong Zhenhua Technology fakuüm magnetron sputtering coating proses wurdt no in soad brûkt yn de coating fan grut-gebiet substrates.It proses wurdt net allinnich brûkt foar single-layer film deposition, mar ek foar multi-layer film coating, boppedat, it wurdt ek brûkt yn de roll to roll proses foar ferpakking film, optyske film, laminaasje en oare film coating.
Post tiid: Nov-07-2022