Yn feite, Ion beam assistearre deposition technology is in gearstalde technology.It is in gearstalde oerflak ion behanneling technyk kombinearret ion ymplantaasje en fysike damp deposition film technology, en in nij soarte fan ion beam oerflak optimalisaasje technyk.Neist de foardielen fan fysike dampdeposysje kin dizze technyk elke diktefilm kontinu groeie ûnder strangere kontrôlebetingsten, de kristalliniteit en oriïntaasje fan 'e filmlaach signifikant ferbetterje, de adhesionssterkte fan' e filmlaach / substraat ferheegje, de tichtens ferbetterje. fan 'e filmlaach, en synthesize gearstalde films mei ideale stoichiometryske ferhâldingen by keamertemperatuer, ynklusyf nije soarten films dy't net by keamertemperatuer en druk kinne wurde krigen.Ionen beam bystien deposition net allinnich behâldt de foardielen fan de ion implantation proses, mar kin ek dekke it substraat mei in folslein oare film út it substraat.
Yn alle soarten fan fysike dampdeposysje en gemyske dampdeposysje kin in set fan helpbombere-iongewearen wurde tafoege om in IBAD-systeem te foarmjen, en d'r binne twa algemiene IBAD-prosessen as folget, lykas werjûn yn 'e Pic:
Lykas sjen litten yn Pic (a), wurdt in elektroanen beam ferdamping boarne brûkt om irradiate de film laach mei de ion beam útstjoerd út de ion gun, sa realisearjen fan ion beam assistearre deposition.It foardiel is dat de ion beam enerzjy en rjochting kinne wurde oanpast, mar allinnich in inkele of beheind alloy, of gearstalling kin brûkt wurde as de evaporation boarne, en de elke damp druk fan de alloy komponint en gearstalling is oars, dat makket it dreech te krijen de film laach fan de oarspronklike ferdamping boarne gearstalling.
Pic (b) toant de ion beam sputtering-assistearre ôfsetting, dy't ek bekend is as dûbele ion beam sputtering ôfsetting, wêryn it doel makke fan ion beam sputtering coating materiaal, de sputtering produkten wurdt brûkt as de boarne.Wylst deponearje it op it substraat, wurdt ion beam sputtering assistearre deposition berikt troch bestraling mei in oare ion boarne.It foardiel fan dizze metoade is dat de sputterde dieltsjes sels in bepaalde enerzjy hawwe, sadat der bettere adhesion mei it substraat is;elke komponint fan it doel kin sputtered coating, mar ek kin wêze reaksje sputtering yn 'e film, maklik te passen de gearstalling fan' e film, mar syn deposition effisjinsje is leech, it doel is djoer en der binne problemen lykas selektyf sputtering.
Post tiid: Nov-08-2022