Factores que afectan o rendemento do recubrimento por evaporación ao baleiro

1. A taxa de evaporación afectará ás propiedades do revestimento evaporado

A velocidade de evaporación ten unha gran influencia na película depositada.Debido a que a estrutura de revestimento formada pola baixa taxa de deposición é solta e fácil de producir a deposición de partículas grandes, é moi seguro escoller unha maior taxa de evaporación para garantir a compacidade da estrutura do revestimento.Cando a presión do gas residual na cámara de baleiro é constante, a taxa de bombardeo do substrato é un valor constante.Polo tanto, o gas residual contido na película depositada despois de seleccionar unha maior taxa de deposición reducirase, reducindo así a reacción química entre as moléculas de gas residual e as partículas de película evaporada.Polo tanto, pódese mellorar a pureza da película depositada.Nótese que, se a taxa de deposición é demasiado rápida, pode aumentar a tensión interna da película, aumentará os defectos na película e mesmo provocará a ruptura da película.En particular, no proceso de revestimento de evaporación reactiva, para que o gas de reacción reaccione completamente coas partículas do material da película de evaporación, pode seleccionar unha taxa de deposición máis baixa.Por suposto, diferentes materiais elixen diferentes taxas de evaporación.Como exemplo práctico: a deposición da película reflectora, se o grosor da película é de 600 × 10-8 cm e o tempo de evaporación é de 3 segundos, a reflectividade é do 93%.Non obstante, se a velocidade de evaporación diminúe coa mesma condición de espesor, leva 10 minutos completar a deposición da película.Neste momento, o grosor da película é o mesmo.Non obstante, a reflectividade baixou ata o 68%.

2. A temperatura do substrato afectará ao revestimento de evaporación

A temperatura do substrato ten unha gran influencia sobre o revestimento de evaporación.As moléculas de gas residuais adsorbidas na superficie do substrato a alta temperatura do substrato son fáciles de eliminar.Especialmente a eliminación de moléculas de vapor de auga é máis importante.Ademais, a temperaturas máis altas, non só é fácil promover a transformación da adsorción física á adsorción química, aumentando así a forza de unión entre as partículas.Ademais, tamén pode reducir a diferenza entre a temperatura de recristalización das moléculas de vapor e a temperatura do substrato, reducindo ou eliminando así o estrés interno na interface baseada na película.Ademais, debido a que a temperatura do substrato está relacionada co estado cristalino da película, adoita ser fácil formar revestimentos amorfos ou microcristalinos baixo a condición de baixa temperatura do substrato ou sen quecemento.Pola contra, cando a temperatura é alta, é fácil formar un revestimento cristalino.O aumento da temperatura do substrato tamén é propicio para mellorar as propiedades mecánicas do revestimento.Por suposto, a temperatura do substrato non debe ser demasiado alta para evitar a evaporación do revestimento.

3. A presión do gas residual na cámara de baleiro afectará ás propiedades da película

A presión do gas residual na cámara de baleiro ten unha gran influencia no rendemento da membrana.As moléculas de gas residual con presión demasiado alta non só son fáciles de chocar coas partículas que se evaporan, o que reducirá a enerxía cinética das persoas no substrato e afectará a adhesión da película.Ademais, unha presión de gas residual demasiado alta afectará seriamente a pureza da película e reducirá o rendemento do revestimento.

4. Efecto da temperatura de evaporación sobre o revestimento de evaporación

O efecto da temperatura de evaporación sobre o rendemento da membrana móstrase polo cambio da velocidade de evaporación coa temperatura.Cando a temperatura de evaporación é alta, a calor de vaporización diminúe.Se o material da membrana se evapora por riba da temperatura de evaporación, incluso un lixeiro cambio de temperatura pode provocar un cambio brusco na taxa de evaporación do material da membrana.Polo tanto, é moi importante controlar a temperatura de evaporación con precisión durante a deposición da película para evitar un gran gradiente de temperatura cando se quenta a fonte de evaporación.Para o material da película que é fácil de sublimar, tamén é moi importante seleccionar o propio material como quentador para a evaporación e outras medidas.

5. O estado de limpeza do substrato e da cámara de revestimento afectará o rendemento do revestimento

Non se pode ignorar o efecto da limpeza do substrato e da cámara de revestimento sobre o rendemento do revestimento.Non só afectará seriamente a pureza da película depositada, senón que tamén reducirá a adhesión da película.Polo tanto, a purificación do substrato, o tratamento de limpeza da cámara de revestimento ao baleiro e os seus compoñentes relacionados (como o marco do substrato) e a desgasificación da superficie son procesos indispensables no proceso de revestimento ao baleiro.