Introdución da deposición de vapor ao baleiro, pulverización catódica e revestimento iónico

O revestimento ao baleiro inclúe principalmente a deposición de vapor ao baleiro, o revestimento por pulverización catódica e o revestimento iónico, todos eles utilizados para depositar varias películas metálicas e non metálicas na superficie de pezas de plástico mediante destilación ou pulverización catódica en condicións de baleiro, que poden obter un revestimento superficial moi fino. coa excelente vantaxe da rápida adhesión, pero o prezo tamén é maior e os tipos de metais que se poden operar son menores e úsanse xeralmente para o revestimento funcional de produtos de maior calidade.

A deposición de vapor ao baleiro é un método para quentar o metal a alto baleiro, facéndoo fundir, evaporarse e formar unha fina película metálica na superficie da mostra despois do arrefriamento, cun espesor de 0,8-1,2 um.Enche as pequenas partes cóncavas e convexas da superficie do produto formado para obter unha superficie parecida a un espello. Cando se realiza a deposición de vapor ao baleiro para obter un efecto espello reflector ou para vaporizar ao baleiro un aceiro con baixa adherencia, a superficie inferior debe estar revestido.

A pulverización catódica xeralmente refírese á pulverización catódica con magnetrón, que é un método de pulverización catódica a alta velocidade e a baixa temperatura.O proceso require un baleiro de aproximadamente 1 × 10-3Torr, é dicir, un estado de baleiro de 1,3 × 10-3Pa cheo de gas inerte argón (Ar), e entre o substrato plástico (ánodo) e o obxectivo metálico (cátodo) máis alta tensión. A corrente continua, debido á excitación electrónica do gas inerte xerado pola descarga luminosa, que produce plasma, o plasma explotará os átomos do obxectivo metálico e depositaos no substrato plástico.A maioría dos revestimentos metálicos xerais usan pulverización de CC, mentres que os materiais cerámicos non condutores usan pulverización de CA RF.

O revestimento iónico é un método no que se utiliza unha descarga de gas para ionizar parcialmente o gas ou a substancia evaporada en condicións de baleiro, e a substancia evaporada ou os seus reactivos deposítanse no substrato mediante o bombardeo de ións gaseosos ou ións da substancia evaporada.Estes inclúen o revestimento iónico de magnetrón, o revestimento de ión reactivo, o revestimento de ión de descarga de cátodo oco (método de deposición de vapor de cátodo oco) e o revestimento de ión multi-arco (revestimento de ión de arco catódico).

Magnetrón vertical de dobre cara que pulveriza revestimento continuo en liña
Ampla aplicabilidade, pódese usar para produtos electrónicos como a capa de blindaxe EMI de carcasa do portátil, produtos planos e mesmo todos os produtos de vasos de lámpadas dentro dunha especificación de altura determinada.Gran capacidade de carga, suxeición compacta e suxeición escalonada de vasos lixeiros cónicos para o revestimento de dobre cara, que pode ter maior capacidade de carga.Calidade estable, boa consistencia da capa de película de lote a lote.Alto grao de automatización e baixo custo de man de obra.