આર્ક ઇલેક્ટ્રોન પ્રવાહની લાક્ષણિકતાઓ અને જનરેશન પદ્ધતિઓ

1.આર્ક લાઇટ ઇલેક્ટ્રોન પ્રવાહની લાક્ષણિકતાઓ

આર્ક પ્લાઝ્મામાં ઈલેક્ટ્રોન ફ્લો, આયન ફ્લો અને હાઈ-એનર્જી ન્યુટ્રલ અણુઓની ઘનતા આર્ક ડિસ્ચાર્જ દ્વારા પેદા થતા ગ્લો ડિસ્ચાર્જ કરતા ઘણી વધારે છે.કોટિંગ સ્પેસમાં વધુ ગેસ આયનો અને મેટલ આયનો આયનોઈઝ્ડ, ઉત્તેજિત ઉચ્ચ-ઊર્જા અણુઓ અને વિવિધ સક્રિય જૂથો છે, જે કોટિંગ પ્રક્રિયાના ગરમી, સફાઈ અને કોટિંગ તબક્કામાં મહત્વપૂર્ણ ભૂમિકા ભજવે છે.આર્ક ઇલેક્ટ્રોન પ્રવાહનું ક્રિયા સ્વરૂપ આયન બીમ કરતા અલગ છે, જે તમામ "બીમ" માં એકરૂપ થતા નથી, પરંતુ મોટાભાગે એક અલગ સ્થિતિમાં છે, તેથી તેને આર્ક ઇલેક્ટ્રોન પ્રવાહ કહેવામાં આવે છે.કારણ કે આર્ક ઇલેક્ટ્રોન એનોડ તરફ વહે છે, આર્ક ઇલેક્ટ્રોન પ્રવાહ જ્યાં પણ ચાપ પાવર સપ્લાયના હકારાત્મક ઇલેક્ટ્રોડ સાથે જોડાયેલ હોય ત્યાં નિર્દેશિત થાય છે, અને એનોડ વર્કપીસ, સહાયક એનોડ, ક્રુસિબલ વગેરે હોઈ શકે છે.

2.આર્ક ઇલેક્ટ્રોન પ્રવાહ પેદા કરવાની પદ્ધતિ

(1) ગેસ સ્ત્રોત આર્ક ઇલેક્ટ્રોન ફ્લો પેદા કરે છે: હોલો કેથોડ આર્ક ડિસ્ચાર્જ અને ગરમ વાયર આર્ક ડિસ્ચાર્જનો આર્ક પ્રવાહ લગભગ 200A સુધી પહોંચી શકે છે, અને આર્ક વોલ્ટેજ 50-70V છે.

(2) નક્કર સ્ત્રોત ચાપ ઇલેક્ટ્રોન પ્રવાહ પેદા કરે છે: કેથોડ ચાપ સ્ત્રોત, જેમાં નાના ચાપ સ્ત્રોત, નળાકાર ચાપ સ્ત્રોત, લંબચોરસ પ્લેન મોટા ચાપ સ્ત્રોત વગેરેનો સમાવેશ થાય છે. દરેક કેથોડ આર્ક સ્ત્રોત સ્રાવનો ચાપ પ્રવાહ 80-200A છે, અને ચાપ વોલ્ટેજ છે. 18-25 વી.

બે પ્રકારના આર્ક ડિસ્ચાર્જ પ્લાઝમામાં ઉચ્ચ-ઘનતા અને ઓછી-ઊર્જા આર્ક ઇલેક્ટ્રોન પ્રવાહ ગેસ અને મેટલ ફિલ્મ અણુઓ સાથે તીવ્ર અથડામણ આયનીકરણ પેદા કરી શકે છે, વધુ ગેસ આયનો, ધાતુના આયનો અને વિવિધ ઉચ્ચ-ઊર્જા સક્રિય અણુઓ અને જૂથો મેળવી શકે છે, જેનાથી તેમાં સુધારો થાય છે. ફિલ્મ સ્તર આયનોની એકંદર પ્રવૃત્તિ.

-આ લેખ ગુઆંગડોંગ ઝેન્હુઆ દ્વારા બહાર પાડવામાં આવ્યો હતો, એવેક્યુમ કોટિંગ મશીન ઉત્પાદક