શૂન્યાવકાશ બાષ્પીભવન પ્લેટિંગના પ્રભાવને અસર કરતા પરિબળો

1. બાષ્પીભવન દર બાષ્પીભવન કોટિંગના ગુણધર્મો પર અસર કરશે

બાષ્પીભવન દરનો જમા થયેલ ફિલ્મ પર મોટો પ્રભાવ છે.કારણ કે નીચા ડિપોઝિશન રેટ દ્વારા રચાયેલ કોટિંગ માળખું ઢીલું અને મોટા કણોના ડિપોઝિશનને ઉત્પન્ન કરવામાં સરળ છે, કોટિંગ સ્ટ્રક્ચરની કોમ્પેક્ટનેસની ખાતરી કરવા માટે ઉચ્ચ બાષ્પીભવન દર પસંદ કરવાનું ખૂબ સલામત છે.જ્યારે શૂન્યાવકાશ ચેમ્બરમાં શેષ ગેસનું દબાણ સતત હોય છે, ત્યારે સબસ્ટ્રેટનો બોમ્બાર્ડમેન્ટ દર એક સ્થિર મૂલ્ય છે.તેથી, ઉચ્ચ ડિપોઝિશન રેટ પસંદ કર્યા પછી જમા થયેલ ફિલ્મમાં રહેલ શેષ ગેસમાં ઘટાડો થશે, આમ શેષ ગેસના અણુઓ અને બાષ્પીભવન કરાયેલ ફિલ્મ કણો વચ્ચેની રાસાયણિક પ્રક્રિયામાં ઘટાડો થશે.તેથી, જમા કરેલી ફિલ્મની શુદ્ધતા સુધારી શકાય છે.એ નોંધવું જોઈએ કે જો ડિપોઝિશન રેટ ખૂબ ઝડપી હોય, તો તે ફિલ્મના આંતરિક તણાવમાં વધારો કરી શકે છે, તે ફિલ્મમાં ખામીઓમાં વધારો કરશે, અને ફિલ્મના ભંગાણ તરફ દોરી જશે.ખાસ કરીને, પ્રતિક્રિયાશીલ બાષ્પીભવન પ્લેટિંગની પ્રક્રિયામાં, પ્રતિક્રિયા ગેસને બાષ્પીભવન ફિલ્મ સામગ્રીના કણો સાથે સંપૂર્ણ રીતે પ્રતિક્રિયા કરવા માટે, તમે નિમ્ન નિક્ષેપ દર પસંદ કરી શકો છો.અલબત્ત, વિવિધ સામગ્રીઓ વિવિધ બાષ્પીભવન દર પસંદ કરે છે.પ્રાયોગિક ઉદાહરણ તરીકે- પ્રતિબિંબીત ફિલ્મનું નિરાકરણ, જો ફિલ્મની જાડાઈ 600×10-8cm છે અને બાષ્પીભવનનો સમય 3s છે, તો પરાવર્તકતા 93% છે.જો કે, જો સમાન જાડાઈની સ્થિતિમાં બાષ્પીભવનનો દર ધીમો કરવામાં આવે છે, તો ફિલ્મ ડિપોઝિશનને પૂર્ણ કરવામાં 10 મિનિટનો સમય લાગે છે.આ સમયે, ફિલ્મની જાડાઈ સમાન છે.જો કે, પરાવર્તકતા ઘટીને 68% થઈ ગઈ છે.

2. સબટ્રેટ તાપમાન બાષ્પીભવન કોટિંગ પર અસર કરશે

બાષ્પીભવન કોટિંગ પર સબસ્ટ્રેટ તાપમાનનો મોટો પ્રભાવ છે.ઉચ્ચ સબસ્ટ્રેટ તાપમાને સબસ્ટ્રેટ સપાટી પર શોષાયેલા શેષ ગેસના અણુઓ દૂર કરવા સરળ છે.ખાસ કરીને પાણીની વરાળના પરમાણુઓને નાબૂદ કરવાનું વધુ મહત્વનું છે.તદુપરાંત, ઊંચા તાપમાને, ભૌતિક શોષણથી રાસાયણિક શોષણમાં પરિવર્તનને પ્રોત્સાહન આપવું સરળ નથી, આમ કણો વચ્ચે બંધનકર્તા બળમાં વધારો થાય છે.તદુપરાંત, તે વરાળના અણુઓના પુનઃસ્થાપન તાપમાન અને સબસ્ટ્રેટ તાપમાન વચ્ચેના તફાવતને પણ ઘટાડી શકે છે, આમ ફિલ્મ-આધારિત ઇન્ટરફેસ પર આંતરિક તાણ ઘટાડે છે અથવા દૂર કરે છે.વધુમાં, કારણ કે સબસ્ટ્રેટનું તાપમાન ફિલ્મની સ્ફટિકીય સ્થિતિ સાથે સંબંધિત છે, તે નીચા સબસ્ટ્રેટ તાપમાન અથવા કોઈ હીટિંગની સ્થિતિ હેઠળ આકારહીન અથવા માઇક્રોક્રિસ્ટલાઇન કોટિંગ્સ બનાવવાનું ઘણીવાર સરળ છે.તેનાથી વિપરીત, જ્યારે તાપમાન ઊંચું હોય છે, ત્યારે સ્ફટિકીય કોટિંગ બનાવવું સરળ છે.સબસ્ટ્રેટના તાપમાનમાં વધારો એ કોટિંગના યાંત્રિક ગુણધર્મોને સુધારવા માટે પણ અનુકૂળ છે.અલબત્ત, કોટિંગના બાષ્પીભવનને રોકવા માટે સબસ્ટ્રેટનું તાપમાન ખૂબ ઊંચું ન હોવું જોઈએ.

3. વેક્યૂમ ચેમ્બરમાં શેષ ગેસનું દબાણ ફિલ્મના ગુણધર્મો પર અસર કરશે

શૂન્યાવકાશ ચેમ્બરમાં શેષ ગેસનું દબાણ પટલની કામગીરી પર મોટો પ્રભાવ ધરાવે છે.અતિશય ઊંચા દબાણવાળા શેષ ગેસના પરમાણુઓ બાષ્પીભવન થતા કણો સાથે અથડાવા માટે સરળ નથી, જે સબસ્ટ્રેટ પરના લોકોની ગતિ ઊર્જાને ઘટાડશે અને ફિલ્મના સંલગ્નતાને અસર કરશે.વધુમાં, ખૂબ ઊંચા શેષ ગેસનું દબાણ ફિલ્મની શુદ્ધતાને ગંભીરપણે અસર કરશે અને કોટિંગની કામગીરીમાં ઘટાડો કરશે.

4. બાષ્પીભવન કોટિંગ પર બાષ્પીભવન તાપમાનની અસર

પટલના પ્રભાવ પર બાષ્પીભવન તાપમાનની અસર તાપમાન સાથે બાષ્પીભવન દરમાં ફેરફાર દ્વારા દર્શાવવામાં આવે છે.જ્યારે બાષ્પીભવનનું તાપમાન ઊંચું હોય છે, ત્યારે બાષ્પીભવનની ગરમી ઘટશે.જો પટલ સામગ્રી બાષ્પીભવન તાપમાનથી ઉપર બાષ્પીભવન થાય છે, તો તાપમાનમાં થોડો ફેરફાર પણ પટલ સામગ્રીના બાષ્પીભવન દરમાં તીવ્ર ફેરફાર લાવી શકે છે.તેથી, બાષ્પીભવનના સ્ત્રોતને ગરમ કરવામાં આવે ત્યારે મોટા તાપમાનના ઢાળને ટાળવા માટે ફિલ્મના ડિપોઝિશન દરમિયાન બાષ્પીભવન તાપમાનને ચોક્કસ રીતે નિયંત્રિત કરવું ખૂબ જ મહત્વપૂર્ણ છે.ઉત્કૃષ્ટતા માટે સરળ હોય તેવી ફિલ્મ સામગ્રી માટે, બાષ્પીભવન અને અન્ય પગલાં માટે હીટર તરીકે સામગ્રીને પસંદ કરવી પણ ખૂબ જ મહત્વપૂર્ણ છે.

5. સબસ્ટ્રેટ અને કોટિંગ ચેમ્બરની સફાઈ સ્થિતિ કોટિંગની કામગીરી પર અસર કરશે

કોટિંગની કામગીરી પર સબસ્ટ્રેટ અને કોટિંગ ચેમ્બરની સ્વચ્છતાની અસરને અવગણી શકાતી નથી.તે માત્ર જમા થયેલી ફિલ્મની શુદ્ધતાને ગંભીર અસર કરશે નહીં, પણ ફિલ્મના સંલગ્નતાને પણ ઘટાડશે.તેથી, સબસ્ટ્રેટનું શુદ્ધિકરણ, શૂન્યાવકાશ કોટિંગ ચેમ્બરની સફાઈ અને તેના સંબંધિત ઘટકો (જેમ કે સબસ્ટ્રેટ ફ્રેમ) અને સપાટીનું ડિગાસિંગ એ બધી વેક્યુમ કોટિંગ પ્રક્રિયામાં અનિવાર્ય પ્રક્રિયાઓ છે.