વેક્યુમ કોટિંગ મશીન પ્રક્રિયાઓ શું છે?કાર્ય સિદ્ધાંત શું છે?

આવેક્યુમ કોટિંગમશીન પ્રક્રિયાને વિભાજિત કરવામાં આવી છે: વેક્યૂમ બાષ્પીભવન કોટિંગ, વેક્યૂમ સ્પુટરિંગ કોટિંગ અને વેક્યુમ આયન કોટિંગ.

1, વેક્યુમ બાષ્પીભવન કોટિંગ

શૂન્યાવકાશ સ્થિતિ હેઠળ, સામગ્રીને બાષ્પીભવન કરો，જેમ કે ધાતુ, મેટલ એલોય, વગેરે. પછી તેને સબસ્ટ્રેટ સપાટી પર જમા કરો, બાષ્પીભવન કોટિંગ પદ્ધતિ ઘણીવાર પ્રતિકારક ગરમીનો ઉપયોગ કરે છે, અને પછી કોટિંગ સામગ્રીના ઇલેક્ટ્રોન બીમ બોમ્બાર્ડમેન્ટ, તેમને બનાવે છે. ગેસ તબક્કામાં બાષ્પીભવન થાય છે, પછી સબસ્ટ્રેટ સપાટી પર જમા થાય છે, ઐતિહાસિક રીતે, શૂન્યાવકાશ વેપર ડિપોઝિશન એ પીવીડી પદ્ધતિમાં વપરાતી અગાઉની તકનીક છે.

2, સ્પુટરિંગ કોટિંગ

ગેસ (Ar) ભરેલી શૂન્યાવકાશ પરિસ્થિતિઓ હેઠળ ગ્લો ડિસ્ચાર્જને આધિન છે. આ ક્ષણે આર્ગોન (Ar) અણુઓ નાઇટ્રોજન આયનો (Ar) માં આયન બને છે, આયનો ઇલેક્ટ્રિક ક્ષેત્રના બળથી ઝડપી બને છે, અને કેથોડ લક્ષ્ય પર બોમ્બમારો કરે છે. કોટિંગ મટિરિયલથી બનેલું છે, ટાર્ગેટ બહાર કાઢીને સબસ્ટ્રેટ સપાટી પર જમા કરવામાં આવશે, સ્પુટર કોટિંગમાં ઘટના આયનો, સામાન્ય રીતે ગ્લો ડિસ્ચાર્જ દ્વારા મેળવવામાં આવે છે, તે 10-2pa થી 10Pa ની રેન્જમાં હોય છે，તેથી સ્પુટર કણો અથડાવા માટે સરળ છે. સબસ્ટ્રેટ તરફ ઉડતી વખતે શૂન્યાવકાશ ચેમ્બરમાં ગેસના અણુઓ સાથે, ગતિની દિશાને રેન્ડમ બનાવે છે અને જમા થયેલી ફિલ્મ એકસરખી બની જાય છે.

3, આયન કોટિંગ

શૂન્યાવકાશની સ્થિતિમાં, શૂન્યાવકાશની સ્થિતિમાં, કોટિંગ સામગ્રીના અણુઓને આંશિક રીતે આયનોમાં આયનીકરણ કરવા માટે ચોક્કસ પ્લાઝ્મા આયનીકરણ તકનીકનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે. તે જ સમયે ઘણા ઉચ્ચ ઉર્જા તટસ્થ અણુઓ ઉત્પન્ન થાય છે ，જે સબસ્ટ્રેટ પર નકારાત્મક રીતે પક્ષપાતી હોય છે. આ રીતે, આયનો પાતળી ફિલ્મ બનાવવા માટે ઊંડા નકારાત્મક પૂર્વગ્રહ હેઠળ સબસ્ટ્રેટ સપાટી પર જમા કરવામાં આવે છે.