1. वाष्पीकरण दर वाष्पीकृत कोटिंग के गुणों पर प्रभाव डालेगी
जमा फिल्म पर वाष्पीकरण दर का बहुत प्रभाव पड़ता है।क्योंकि कम जमाव दर से बनी कोटिंग संरचना ढीली होती है और बड़े कणों का जमाव पैदा करना आसान होता है, इसलिए कोटिंग संरचना की सघनता सुनिश्चित करने के लिए उच्च वाष्पीकरण दर का चयन करना बहुत सुरक्षित होता है।जब निर्वात कक्ष में अवशिष्ट गैस का दबाव स्थिर होता है, तो सब्सट्रेट की बमबारी दर एक स्थिर मान होती है।इसलिए, उच्च जमाव दर का चयन करने के बाद जमा फिल्म में निहित अवशिष्ट गैस कम हो जाएगी, जिससे अवशिष्ट गैस अणुओं और वाष्पित फिल्म कणों के बीच रासायनिक प्रतिक्रिया कम हो जाएगी।इसलिए, जमा फिल्म की शुद्धता में सुधार किया जा सकता है।यह ध्यान दिया जाना चाहिए कि यदि जमाव दर बहुत तेज है, तो इससे फिल्म का आंतरिक तनाव बढ़ सकता है, इससे फिल्म में दोष बढ़ जाएंगे और यहां तक कि फिल्म टूट भी सकती है।विशेष रूप से, प्रतिक्रियाशील वाष्पीकरण चढ़ाना की प्रक्रिया में, प्रतिक्रिया गैस को वाष्पीकरण फिल्म सामग्री के कणों के साथ पूरी तरह से प्रतिक्रिया करने के लिए, आप कम जमाव दर का चयन कर सकते हैं।बेशक, अलग-अलग सामग्रियां अलग-अलग वाष्पीकरण दर चुनती हैं।एक व्यावहारिक उदाहरण के रूप में- परावर्तक फिल्म का जमाव, यदि फिल्म की मोटाई 600×10-8 सेमी है और वाष्पीकरण का समय 3s है, तो परावर्तकता 93% है।हालाँकि, यदि समान मोटाई की स्थिति में वाष्पीकरण दर धीमी हो जाती है, तो फिल्म जमाव को पूरा करने में 10 मिनट लगते हैं।इस समय, फिल्म की मोटाई समान है।हालाँकि, परावर्तनशीलता गिरकर 68% हो गई है।
2. सबट्रेट तापमान वाष्पीकरण कोटिंग पर प्रभाव डालेगा
सब्सट्रेट तापमान का वाष्पीकरण कोटिंग पर बहुत प्रभाव पड़ता है।उच्च सब्सट्रेट तापमान पर सब्सट्रेट सतह पर अधिशोषित अवशिष्ट गैस अणुओं को हटाना आसान होता है।विशेषकर जलवाष्प अणुओं का उन्मूलन अधिक महत्वपूर्ण है।इसके अलावा, उच्च तापमान पर, भौतिक सोखना से रासायनिक सोखना में परिवर्तन को बढ़ावा देना न केवल आसान है, बल्कि इस प्रकार कणों के बीच बंधन बल भी बढ़ता है।इसके अलावा, यह वाष्प अणुओं के पुनर्क्रिस्टलीकरण तापमान और सब्सट्रेट तापमान के बीच अंतर को भी कम कर सकता है, इस प्रकार फिल्म-आधारित इंटरफ़ेस पर आंतरिक तनाव को कम या समाप्त कर सकता है।इसके अलावा, क्योंकि सब्सट्रेट तापमान फिल्म की क्रिस्टलीय स्थिति से संबंधित होता है, कम सब्सट्रेट तापमान या कोई हीटिंग की स्थिति के तहत अनाकार या माइक्रोक्रिस्टलाइन कोटिंग बनाना अक्सर आसान होता है।इसके विपरीत, जब तापमान अधिक होता है, तो क्रिस्टलीय कोटिंग बनाना आसान होता है।सब्सट्रेट तापमान में वृद्धि कोटिंग के यांत्रिक गुणों में सुधार के लिए भी अनुकूल है।बेशक, कोटिंग के वाष्पीकरण को रोकने के लिए सब्सट्रेट का तापमान बहुत अधिक नहीं होना चाहिए।
3. निर्वात कक्ष में अवशिष्ट गैस का दबाव फिल्म के गुणों पर प्रभाव डालेगा
निर्वात कक्ष में अवशिष्ट गैस का दबाव झिल्ली के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव डालता है।बहुत अधिक दबाव वाले अवशिष्ट गैस अणुओं को वाष्पित होने वाले कणों से टकराना आसान नहीं होता है, जो सब्सट्रेट पर लोगों की गतिज ऊर्जा को कम कर देगा और फिल्म के आसंजन को प्रभावित करेगा।इसके अलावा, बहुत अधिक अवशिष्ट गैस दबाव फिल्म की शुद्धता को गंभीर रूप से प्रभावित करेगा और कोटिंग के प्रदर्शन को कम करेगा।
4. वाष्पीकरण कोटिंग पर वाष्पीकरण तापमान का प्रभाव
झिल्ली के प्रदर्शन पर वाष्पीकरण तापमान का प्रभाव तापमान के साथ वाष्पीकरण दर में परिवर्तन से दिखाया जाता है।जब वाष्पीकरण का तापमान अधिक होगा, तो वाष्पीकरण की गर्मी कम हो जाएगी।यदि झिल्ली सामग्री वाष्पीकरण तापमान से ऊपर वाष्पित हो जाती है, तो तापमान में थोड़ा सा बदलाव भी झिल्ली सामग्री की वाष्पीकरण दर में तेज बदलाव का कारण बन सकता है।इसलिए, वाष्पीकरण स्रोत के गर्म होने पर बड़े तापमान प्रवणता से बचने के लिए फिल्म के जमाव के दौरान वाष्पीकरण तापमान को सटीक रूप से नियंत्रित करना बहुत महत्वपूर्ण है।फिल्म सामग्री के लिए जिसे ऊर्ध्वपातन करना आसान है, वाष्पीकरण और अन्य उपायों के लिए हीटर के रूप में सामग्री का चयन करना भी बहुत महत्वपूर्ण है।
5. सब्सट्रेट और कोटिंग चैम्बर की सफाई की स्थिति कोटिंग के प्रदर्शन पर प्रभाव डालेगी
कोटिंग के प्रदर्शन पर सब्सट्रेट और कोटिंग कक्ष की सफाई के प्रभाव को नजरअंदाज नहीं किया जा सकता है।यह न केवल जमा हुई फिल्म की शुद्धता को गंभीर रूप से प्रभावित करेगा, बल्कि फिल्म के आसंजन को भी कम करेगा।इसलिए, सब्सट्रेट की शुद्धि, वैक्यूम कोटिंग कक्ष और उसके संबंधित घटकों (जैसे सब्सट्रेट फ्रेम) की सफाई उपचार और सतह का डीगैसिंग वैक्यूम कोटिंग प्रक्रिया में सभी अपरिहार्य प्रक्रियाएं हैं।
पोस्ट करने का समय: फरवरी-28-2023