मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग और कैथोडिक मल्टी-आर्क आयन कोटिंग कम्पोजिट तकनीक

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग और कैथोडिक मल्टी-आर्क आयन कोटिंग के समग्र कोटिंग उपकरण अलग-अलग और एक साथ काम कर सकते हैं;शुद्ध धातु फिल्म, धातु मिश्रित फिल्म या मिश्रित फिल्म जमा और तैयार की जा सकती है;फिल्म की एक परत और एक बहु-परत मिश्रित फिल्म हो सकती है।

इसके फायदे इस प्रकार हैं:
यह न केवल विभिन्न आयन कोटिंग्स के फायदों को जोड़ता है और आवेदन के विभिन्न क्षेत्रों के लिए पतली फिल्म की तैयारी और जमाव को ध्यान में रखता है, बल्कि एक ही वैक्यूम में मल्टी-लेयर मोनोलिथिक फिल्मों या मल्टी-लेयर मिश्रित फिल्मों के जमाव और तैयारी की भी अनुमति देता है। एक समय में कोटिंग चैम्बर.
जमा की गई फिल्म परतों के अनुप्रयोगों का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है, इसकी प्रौद्योगिकियां विभिन्न रूपों में होती हैं, विशिष्ट रूप इस प्रकार हैं:
(1) गैर-संतुलन मैग्नेट्रोन स्पटरिंग और कैथोडिक आयन चढ़ाना प्रौद्योगिकी का यौगिक।
इसका उपकरण निम्नानुसार दिखाया गया है।यह कॉलमर मैग्नेट्रोन टारगेट और प्लेनर कैथोडिक आर्क आयन कोटिंग का एक मिश्रित कोटिंग उपकरण है, जो टूल कोटिंग कंपाउंड फिल्म और सजावटी फिल्म कोटिंग दोनों के लिए उपयुक्त है।टूल कोटिंग के लिए, कैथोडिक आर्क आयन कोटिंग का उपयोग पहले बेस परत कोटिंग के लिए किया जाता है, और फिर उच्च परिशुद्धता प्रसंस्करण उपकरण सतह फिल्म प्राप्त करने के लिए नाइट्राइड और अन्य फिल्म परतों के जमाव के लिए कॉलम मैग्नेट्रोन लक्ष्य का उपयोग किया जाता है।
सजावटी कोटिंग के लिए, TiN और ZrN सजावटी फिल्मों को पहले कैथोडिक आर्क कोटिंग द्वारा जमा किया जा सकता है, और फिर मैग्नेट्रोन लक्ष्यों का उपयोग करके धातु के साथ डोप किया जा सकता है, और डोपिंग प्रभाव बहुत अच्छा होता है।

(2) ट्विन प्लेन मैग्नेट्रोन और कॉलम कैथोड आर्क आयन कोटिंग तकनीक का यौगिक।डिवाइस को निम्नानुसार दिखाया गया है।इसमें उन्नत जुड़वां लक्ष्य तकनीक का उपयोग किया जाता है, जब दो अगल-बगल जुड़वां लक्ष्य मध्यम आवृत्ति बिजली आपूर्ति से जुड़े होते हैं, तो यह न केवल डीसी स्पटरिंग, आग और अन्य कमियों के लक्ष्य विषाक्तता पर काबू पाता है;और Al203, SiO2 ऑक्साइड गुणवत्ता वाली फिल्म जमा कर सकते हैं, जिससे लेपित भागों के ऑक्सीकरण प्रतिरोध में वृद्धि और सुधार हुआ है।निर्वात कक्ष के केंद्र में स्थापित स्तंभकार मल्टी-आर्क लक्ष्य, लक्ष्य सामग्री का उपयोग Ti और Zr किया जा सकता है, न केवल उच्च मल्टी-आर्क पृथक्करण दर, जमाव दर के फायदे को बनाए रखने के लिए, बल्कि प्रभावी ढंग से "बूंदों" को भी कम कर सकता है। छोटे विमान मल्टी-आर्क लक्ष्य जमाव की प्रक्रिया, धातु फिल्मों, मिश्रित फिल्मों की कम सरंध्रता को जमा और तैयार कर सकती है।यदि परिधि पर स्थापित जुड़वां समतल मैग्नेट्रोन लक्ष्यों के लिए अल और सी को लक्ष्य सामग्री के रूप में उपयोग किया जाता है, तो अल203 या सी0 धातु-सिरेमिक फिल्में जमा और तैयार की जा सकती हैं।इसके अलावा, मल्टी-आर्क वाष्पीकरण स्रोत के कई छोटे विमानों को परिधि पर स्थापित किया जा सकता है, और इसकी लक्ष्य सामग्री सीआर या नी हो सकती है, और धातु फिल्में और मल्टीलेयर मिश्रित फिल्में जमा और तैयार की जा सकती हैं।इसलिए, यह मिश्रित कोटिंग तकनीक कई अनुप्रयोगों वाली एक मिश्रित कोटिंग तकनीक है।