Proces plazma izravne polimerizacije

Proces plazma izravne polimerizacije

Proces plazma polimerizacije je relativno jednostavan i za opremu za polimerizaciju s unutarnjom elektrodom i za opremu za polimerizaciju s vanjskom elektrodom, ali je odabir parametara važniji u plazma polimerizaciji, jer parametri imaju veći utjecaj na strukturu i performanse polimernih filmova tijekom plazma polimerizacije.

Radni koraci za izravnu plazma polimerizaciju su sljedeći:

(1) Usisavanje

Pozadinski vakuum polimerizacije pod vakuumskim uvjetima treba pumpati na 1,3×10-1Pa.Za reakcije polimerizacije koje zahtijevaju posebne zahtjeve za kontrolu sadržaja kisika ili dušika, zahtjev za pozadinskim vakuumom je još veći.

(2) Monomer reakcije naboja ili mješavina plina nositelja i monomera

Stupanj vakuuma je 13-130Pa.Za plazma polimerizaciju koja zahtijeva rad, mora se odabrati odgovarajući način kontrole protoka i brzina protoka, općenito 10,100 mL/min.U plazmi se molekule monomera ioniziraju i disociraju bombardiranjem energetskih čestica, što rezultira aktivnim česticama kao što su ioni i aktivni geni.Aktivne čestice aktivirane plazmom mogu biti podvrgnute plazma polimerizaciji na granici plinovite faze i čvrste faze.Monomer je izvor prekursora za polimerizaciju u plazmi, a ulazni reakcijski plin i monomer moraju imati određenu čistoću.

(3) Izbor napajanja uzbude

Plazma se može generirati korištenjem izvora istosmjerne struje, visoke frekvencije, RF ili mikrovalne energije kako bi se osiguralo okruženje plazme za polimerizaciju.Odabir napajanja određuje se na temelju zahtjeva za strukturu i performanse polimera.

(4) Odabir načina pražnjenja

Za potrebe polimera, plazma polimerizacija može odabrati dva načina pražnjenja: kontinuirano pražnjenje ili pulsno pražnjenje.

(5) Odabir parametara pražnjenja

Prilikom provođenja plazma polimerizacije, potrebno je uzeti u obzir parametre pražnjenja od parametara plazme, svojstava polimera i strukturnih zahtjeva.Veličina primijenjene snage tijekom polimerizacije određena je volumenom vakuumske komore, veličinom elektrode, brzinom protoka i strukturom monomera, brzinom polimerizacije te strukturom i učinkom polimera.Na primjer, ako je volumen reakcijske komore 1L i usvojena je polimerizacija RF plazmom, snaga pražnjenja bit će u rasponu od 10~30W.Pod takvim uvjetima, stvorena plazma može se skupiti i formirati tanki film na površini obratka.Brzina rasta filma plazma polimerizacije varira s napajanjem, vrstom monomera i brzinom protoka te uvjetima procesa.Općenito, brzina rasta je 100nm/min~1um/min.

(6) Mjerenje parametara u plazma polimerizaciji

Parametri plazme i procesni parametri koji se mjere u plazma polimerizaciji uključuju: napon pražnjenja, struju pražnjenja, frekvenciju pražnjenja, temperaturu elektrona, gustoću, vrstu i koncentraciju reakcijske skupine itd.

——Ovaj je članak objavio Guangdong Zhenhua Technology, aproizvođač strojeva za optičko premazivanje.