Vakuumsko magnetronsko raspršivanje posebno je prikladno za reaktivne prevlake.Zapravo, ovaj proces može taložiti tanke filmove bilo kojeg oksidnog, karbidnog i nitridnog materijala.Osim toga, proces je također posebno prikladan za taloženje višeslojnih filmskih struktura, uključujući optičke dizajne, filmove u boji, premaze otporne na habanje, nano-laminate, superrešetkaste premaze, izolacijske filmove, itd. Već 1970. godine, visokokvalitetni optički film primjeri taloženja razvijeni su za razne materijale slojeva optičkog filma.Ovi materijali uključuju prozirne vodljive materijale, poluvodiče, polimere, okside, karbide i nitride, dok se fluoridi koriste u procesima kao što je nanošenje premaza isparavanjem.
Glavna prednost postupka magnetronskog raspršivanja je korištenje reaktivnih ili nereaktivnih procesa nanošenja slojeva ovih materijala i dobra kontrola sastava sloja, debljine filma, ujednačenosti debljine filma i mehaničkih svojstava sloja.Proces ima sljedeće karakteristike.
1、Velika stopa taloženja.Zbog upotrebe magnetronskih elektroda velike brzine, može se postići veliki protok iona, čime se učinkovito poboljšava brzina taloženja i brzina raspršivanja ovog procesa premazivanja.U usporedbi s drugim postupcima nanošenja premaza raspršivanjem, magnetronsko raspršivanje ima veliki kapacitet i visok prinos te se široko koristi u raznim industrijskim proizvodnjama.
2、Visoka energetska učinkovitost.Meta za magnetronsko raspršivanje općenito bira napon unutar raspona od 200V-1000V, obično je 600V, jer je napon od 600V samo unutar najvećeg učinkovitog raspona energetske učinkovitosti.
3. Niska energija prskanja.Ciljni napon magnetrona primjenjuje se nisko, a magnetsko polje ograničava plazmu u blizini katode, što sprječava čestice s višom energijom da se lansiraju na podlogu.
4、Niska temperatura podloge.Anoda se može koristiti za odvođenje elektrona generiranih tijekom pražnjenja, nije potrebna potpora supstrata da se dovrši, što može učinkovito smanjiti bombardiranje supstrata elektronima.Stoga je temperatura podloge niska, što je vrlo idealno za neke plastične podloge koje nisu jako otporne na visokotemperaturni premaz.
5, Magnetronsko raspršivanje ciljne površine jetkanja nije jednoliko.Neravnomjerno jetkanje površine mete magnetronskim raspršivanjem uzrokovano je nejednakim magnetskim poljem mete.Mjesto stope jetkanja mete je veće, tako da je učinkovita stopa iskorištenja mete niska (samo 20-30% stopa iskorištenja).Stoga, da bi se poboljšala iskorištenost mete, distribucija magnetskog polja mora se promijeniti na određeni način, ili uporaba magneta koji se kreću u katodi također može poboljšati iskorištenost mete.
6、Kompozitna meta.Može izraditi kompozitni ciljni sloj od legure.Trenutačno je korištenje kompozitnog magnetronskog procesa raspršivanja meta uspješno prevučeno na film legure Ta-Ti, (Tb-Dy)-Fe i Gb-Co.Struktura kompozitne mete ima četiri vrste, to su okrugla intarzirana meta, četvrtasta intarzirana meta, mala kvadratna intarzirana meta i sektorska umetnuta meta.Korištenje ciljne strukture s umetnutim sektorom je bolje.
7. Širok raspon primjena.Proces magnetronskog raspršivanja može taložiti mnoge elemente, a uobičajeni su: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO itd.
Magnetronsko raspršivanje jedan je od najčešće korištenih postupaka presvlačenja za dobivanje visokokvalitetnih filmova.S novom katodom, ima visoku iskoristivost cilja i visoku stopu taloženja.Proces premazivanja vakuumskim magnetronskim raspršivanjem tehnologije Guangdong Zhenhua sada se naširoko koristi za premazivanje supstrata velike površine.Proces se ne koristi samo za jednoslojno taloženje filma, već i za višeslojno oblaganje filmom, osim toga, također se koristi u procesu od valjaka do valjanja za film za pakiranje, optički film, laminaciju i druge premaze filmom.
Vrijeme objave: 7. studenog 2022