1、Značajke premaza prskanjem
U usporedbi s konvencionalnim premazom vakuumskim isparavanjem, premaz raspršivanjem ima sljedeće značajke:
(1) Bilo koja tvar se može raspršiti, posebno elementi i spojevi s visokim talištem, niskim tlakom pare.Sve dok je krutina, bilo da je metal, poluvodič, izolator, spoj i smjesa itd., bilo da je blok, zrnati materijal može se koristiti kao ciljni materijal.Budući da dolazi do male razgradnje i frakcioniranja prilikom raspršivanja izolacijskih materijala i legura kao što su oksidi, oni se mogu koristiti za pripremu tankih filmova i filmova od legura s ujednačenim komponentama sličnim onima ciljnog materijala, pa čak i supravodljivih filmova složenog sastava.´ Osim toga, metoda reaktivnog raspršivanja također se može koristiti za proizvodnju filmova spojeva potpuno različitih od ciljnog materijala, kao što su oksidi, nitridi, karbidi i silicidi.
(2) Dobro prianjanje između prskanog filma i podloge.Budući da je energija raspršenih atoma 1-2 reda veličine veća od energije isparenih atoma, pretvorba energije visokoenergetskih čestica položenih na supstrat generira veću toplinsku energiju, što poboljšava prianjanje raspršenih atoma na supstrat.Dio visokoenergetskih raspršenih atoma bit će ubrizgan u različitim stupnjevima, tvoreći takozvani pseudo-difuzijski sloj na supstratu gdje se raspršeni atomi i atomi materijala supstrata "miješaju" jedni s drugima.Osim toga, tijekom bombardiranja raspršujućih čestica, supstrat se uvijek čisti i aktivira u zoni plazme, čime se uklanjaju slabo prilijepljeni istaloženi atomi, pročišćava i aktivira površina supstrata.Kao rezultat toga, prianjanje sloja raspršenog filma na supstrat je znatno poboljšano.
(3) Visoka gustoća nanošenja raspršenog premaza, manje rupa i veća čistoća sloja filma jer nema kontaminacije iz lončića, što je neizbježno kod vakuumskog taloženja iz pare tijekom procesa nanošenja raspršenog sloja.
(4) Dobra upravljivost i ponovljivost debljine filma.Budući da se struja pražnjenja i ciljana struja mogu kontrolirati odvojeno tijekom nanošenja raspršenog premaza, debljina filma može se kontrolirati kontrolom ciljane struje, stoga su upravljivost debljine filma i ponovljivost debljine filma višestrukim raspršivanjem nanošenja raspršenog sloja dobri. , a film unaprijed određene debljine može se učinkovito premazati.Osim toga, nanošenjem raspršenog sloja može se postići jednolika debljina filma na velikom području.Međutim, za opću tehnologiju raspršivanja (uglavnom dipolno raspršivanje), oprema je komplicirana i zahtijeva visokotlačni uređaj;brzina stvaranja filma taloženja raspršivanjem je niska, brzina taloženja isparavanjem u vakuumu je 0,1~5nm/min, dok je brzina raspršivanja 0,01~0,5nm/min;porast temperature supstrata je visok i osjetljiv na plin nečistoće, itd. Međutim, zbog razvoja tehnologije RF raspršivanja i magnetronskog raspršivanja, postignut je veliki napredak u postizanju brzog taloženja raspršivanjem i smanjenja temperature supstrata.Štoviše, posljednjih godina istražuju se nove metode premazivanja raspršivanjem – temeljene na planarnom magnetronskom raspršivanju – kako bi se smanjio tlak zraka za raspršivanje do raspršivanja bez tlaka gdje će tlak usisnog plina tijekom raspršivanja biti jednak nuli.
Vrijeme objave: 8. studenog 2022