Pwosesis koule nan machin kouch Sputtering

1. Substra netwayaj bonbadman

1.1) Sputtering machin kouch itilize egzeyat lumineux pou netwaye substra a.Sa vle di, chaje gaz Agon an nan chanm lan, vòltaj egzeyat se alantou 1000V, Apre yo fin vire sou ekipman pou pouvwa a, se yon egzeyat lumineux pwodwi, ak substra a netwaye pa bonbadman ion agon.

1.2) Nan machin kouch sputtering ki pwodui endistriyèl-wo fen refize pote bijou, iyon Titàn ki emèt pa sous ti arc yo sitou itilize pou netwaye.Se machin nan kouch sputtering ekipe ak yon ti sous arc, ak kouran an iyon Titàn nan plasma a arc ki te pwodwi pa egzeyat sous la ti arc itilize bonbade ak netwaye substra a.

2. Titàn nitrure kouch

Lè w depoze fim mens nitrure Titàn, materyèl sib pou sputtering se sib Titàn.Materyèl sib la konekte ak elektwòd negatif nan ekipman pou pouvwa a sputtering, ak vòltaj la sib se 400 ~ 500V;Flux Agon an fiks, ak vakyòm kontwòl la se (3 ~ 8) x10^-1PA.Substra a konekte ak elektwòd negatif nan ekipman pou pouvwa patipri a, ak yon vòltaj nan 100 ~ 200V.

Apre yo fin vire sou ekipman pou pouvwa a nan sib la sputtering Titàn, se yon egzeyat lumineux pwodwi, ak gwo enèji agon iyon bonbade sib la sputtering, sputtering atòm Titàn soti nan sib la.

Yo prezante nitwojèn gaz reyaksyon an, ak atòm Titàn ak nitwojèn yo ionize nan iyon Titàn ak iyon nitwojèn nan chanm kouch la.Anba atraksyon nan jaden elektrik patipri negatif aplike nan substra a, iyon Titàn ak iyon nitwojèn akselere nan sifas la nan substra a pou reyaksyon chimik ak depozisyon yo fòme yon kouch fim nitrure Titàn.

3. Retire substra a

Apre ou fin rive nan epesè fim nan Predetermined, fèmen ekipman pou pouvwa a sputtering, ekipman pou pouvwa patipri substrate, ak sous lè.Apre tanperati substra a pi ba pase 120 ℃, ranpli chanm nan kouch ak lè epi retire substra a.

Atik sa a pibliye pamagnetron sputtering manifakti machin kouch– Guangdong Zhenhua.