Karakteristik teknik nan ekipman vakyòm magnetron sputtering kouch

Vacuum magnetron sputtering se patikilyèman apwopriye pou kouch depo reyaktif.An reyalite, pwosesis sa a ka depoze fim mens nan nenpòt ki materyèl oksid, carbure, ak nitrure.Anplis de sa, pwosesis la tou se patikilyèman apwopriye pou depozisyon an nan estrikti fim multi, ki gen ladan desen optik, fim koulè, kouch ki reziste mete, nano-laminate, kouch superlattice, fim posibilite, elatriye Osi bonè ke 1970, bon jan kalite fim optik egzanp depozisyon yo te devlope pou yon varyete materyèl kouch fim optik.Materyèl sa yo gen ladan materyèl kondiktif transparan, semi-conducteurs, polymère, oksid, karbid, ak nitrur, pandan y ap fliyò yo itilize nan pwosesis tankou kouch evaporatif.

Avantaj prensipal la nan pwosesis magnetron sputtering la se lè l sèvi avèk pwosesis kouch reyaktif oswa ki pa reyaktif pou depoze kouch materyèl sa yo ak byen kontwole konpozisyon kouch, epesè fim, inifòmite epesè fim ak pwopriyete mekanik kouch la.Pwosesis la gen karakteristik sa yo jan sa a.

1, gwo pousantaj depo.Akòz itilizasyon elektwòd magnetron gwo vitès, yo ka jwenn yon gwo koule ion, efektivman amelyore pousantaj depo ak pousantaj sputtering nan pwosesis kouch sa a.Konpare ak lòt pwosesis kouch sputtering, magnetron sputtering gen yon gwo kapasite ak gwo sede, epi li lajman ki itilize nan divès kalite pwodiksyon endistriyèl.

2 、 efikasite pouvwa segondè.Magnetron sputtering sib jeneralman chwazi vòltaj la nan seri a nan 200V-1000V, anjeneral, se 600V, paske vòltaj la nan 600V se jis nan ranje ki pi wo efikas nan efikasite pouvwa.

3. Ba enèji sputtering.Vòltaj sib magnetron an aplike ba, epi jaden mayetik la limite plasma a tou pre katod la, ki anpeche patikil ki chaje ak enèji ki pi wo lanse sou substra a.

4, ba tanperati substra.Anòd la ka itilize pou gide elektwon yo pwodwi pandan egzeyat la, pa bezwen sipò substra a fini, sa ki ka efektivman redwi bonbadman elèktron substrate la.Se konsa, tanperati substra a ba, ki trè ideyal pou kèk substrats plastik ki pa trè rezistan a kouch tanperati ki wo.

5, Magnetron sputtering sib sifas grave se pa inifòm.Magnetron sputtering sib sifas grave inegal ki te koze pa jaden an inegal mayetik nan sib la.Kote pousantaj grave sib la pi gwo, pou to itilizasyon efikas sib la ba (sèlman 20-30% to itilizasyon).Se poutèt sa, amelyore itilizasyon sib la, distribisyon chan mayetik la bezwen chanje pa sèten mwayen, oswa itilizasyon leman k ap deplase nan katod la kapab tou amelyore itilizasyon sib la.

6, sib konpoze.Ka fè fim alyaj kouch sib konpoze.A pwezan, itilize afich magnetron sib sputtering pwosesis ki te kouvwi ak siksè sou alyaj Ta-Ti, (Tb-Dy)-Fe ak fim alyaj Gb-Co.Estrikti sib konpoze gen kat kalite, respektivman, se sib la wonn marketri, kare marketri sib, ti kare marketri sib ak sektè marketri sib.Itilizasyon estrikti sib sektè marketri a pi bon.

7. pakèt aplikasyon pou.Pwosesis sputtering Magnetron ka depoze anpil eleman, sa yo komen yo se: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, elatriye.

Magnetron sputtering se youn nan pwosesis kouch ki pi lajman itilize pou jwenn fim kalite siperyè.Avèk yon nouvo katod, li gen gwo itilizasyon sib ak pousantaj depo segondè.Guangdong Zhenhua Teknoloji vakyòm magnetron sputtering kouch pwosesis se kounye a lajman ki itilize nan kouch nan gwo-zòn substrats.Pwosesis la pa sèlman itilize pou yon sèl kouch fim depo, men tou, pou kouch fim milti-kouch, anplis, li se tou itilize nan woulo liv la woule pwosesis pou fim anbalaj, fim optik, laminasyon ak lòt kouch fim.