Vacuum ion plating (ion plating pou kout) se yon nouvo teknoloji tretman sifas ki devlope rapidman nan ane 1970 yo, ki te pwopoze pa DM Mattox nan konpayi Somdia nan Etazini an 1963. Li refere a pwosesis pou itilize sous evaporasyon oswa sputtering. sib pou evapore oswa sputter materyèl fim nan atmosfè a vakyòm.
Ansyen an se jenere vapè metal pa chofe ak evapore materyèl fim nan, ki se pasyèlman ionize nan vapè metal ak gwo enèji net atòm nan espas plasma egzeyat gaz la, epi li rive nan substra a fòme yon fim nan aksyon an nan jaden elektrik la. ;Lèt la sèvi ak iyon ki gen anpil enèji (pa egzanp, Ar +) bonbard sifas materyèl fim pou patikil yo sputtered yo ionize nan iyon oswa atòm net ki gen gwo enèji nan espas ki la nan egzeyat gaz la, epi reyalize sifas la nan substra a. pou fòme yon fim.
Atik sa a pibliye pa Guangdong Zhenhua, yon manifakti aekipman kouch vakyòm
Tan pòs: Mar-10-2023