Pwopriyete Plasma
Nati plasma nan plasma-améliore depo chimik vapè se ke li depann sou enèji sinetik nan elektwon yo nan plasma a aktive reyaksyon chimik yo nan faz gaz la.Piske plasma se yon koleksyon iyon, elektwon, atòm net ak molekil, li elektrik net nan nivo makwoskopik.Nan yon plasma, se yon gwo kantite enèji ki estoke nan enèji entèn nan plasma a.Plasma orijinèlman divize an plasma cho ak plasma frèt.nan sistèm PECVD li se plasma frèt ki fòme pa egzeyat gaz presyon ki ba.Plasma sa a ki te pwodwi pa yon egzeyat presyon ki ba anba a kèk santèn Pa se yon plasma gaz ki pa ekilib.
Nati plasma sa a se jan sa a:
(1) Mouvman tèmik iregilye elektwon ak iyon depase mouvman dirije yo.
(2) Pwosesis ionizasyon li yo sitou ki te koze pa kolizyon nan elektwon vit ak molekil gaz.
(3) Mwayèn enèji mouvman tèmik elektwon yo se 1 a 2 òd mayitid pi wo pase patikil lou yo, tankou molekil, atòm, iyon ak radikal gratis.
(4) Pèt enèji apre kolizyon elektwon ak patikil lou yo ka konpanse nan jaden elektrik ant kolizyon yo.
Li difisil pou karakterize yon plasma ki ba tanperati ki pa ekilib ak yon ti kantite paramèt, paske li se yon plasma ki ba tanperati ki pa ekilib nan yon sistèm PECVD, kote tanperati elèktron Te a pa menm ak tanperati Tj nan patikil lou yo.Nan teknoloji PECVD, fonksyon prensipal plasma a se pwodwi iyon chimik aktif ak radikal gratis.Iyon sa yo ak radikal gratis reyaji ak lòt iyon, atòm ak molekil nan faz gaz la oswa lakòz domaj lasi ak reyaksyon chimik sou sifas substra a, ak sede nan materyèl aktif se yon fonksyon nan dansite elèktron, konsantrasyon reyaktif ak sede koyefisyan.Nan lòt mo, sede a nan materyèl aktif depann sou fòs nan jaden elektrik, presyon gaz, ak ranje an mwayèn gratis nan patikil yo nan moman kolizyon an.Kòm gaz la reyaktif nan plasma a dissociate akòz kolizyon an nan elektwon ki gen gwo enèji, baryè a aktivasyon nan reyaksyon chimik la ka simonte ak tanperati a nan gaz la reyaktif ka redwi.Diferans prensipal ant PECVD ak CVD konvansyonèl yo se ke prensip tèmodinamik reyaksyon chimik yo diferan.Disosyasyon nan molekil gaz nan plasma a se pa selektif, kidonk kouch fim depoze pa PECVD konplètman diferan de CVD konvansyonèl yo.Konpozisyon faz ki te pwodwi pa PECVD ka inik ki pa ekilib, epi fòmasyon li yo pa limite pa sinetik ekilib la ankò.Kouch fim ki pi tipik se eta amorphe.
Karakteristik PECVD
(1) Tanperati depo ki ba.
(2) Diminye estrès entèn ki te koze pa dezakò nan koyefisyan ekspansyon lineyè manbràn/baz materyèl la.
(3) Pousantaj depo a relativman wo, espesyalman depo tanperati ki ba, ki se fezab pou jwenn fim amorphe ak mikrokristalin.
Akòz pwosesis tanperati ki ba nan PECVD, domaj tèmik ka redwi, difizyon mityèl ak reyaksyon ant kouch fim ak materyèl substra ka redwi, elatriye, pou konpozan elektwonik yo ka kouvwi tou de anvan yo te fè oswa akòz bezwen an. pou retravay.Pou envantè de sikui entegre ultra-gwo echèl (VLSI, ULSI), teknoloji PECVD aplike avèk siksè nan fòmasyon fim nitrure Silisyòm (SiN) kòm fim pwoteksyon final la apre fòmasyon nan fil elektrik Al elektwòd, osi byen ke plati ak la. fòmasyon nan fim oksid Silisyòm kòm izolasyon interlayer.Kòm aparèy fim mens, teknoloji PECVD te aplike tou avèk siksè nan envantè de tranzistò fim mens (TFT) pou ekspozisyon LCD, elatriye, lè l sèvi avèk vè kòm substra a nan metòd la matris aktif.Avèk devlopman sikui entegre yo nan pi gwo echèl ak pi wo entegrasyon ak itilizasyon lajman nan aparèy semi-conducteurs konpoze, PECVD oblije fèt nan pi ba tanperati ak pi wo pwosesis enèji elektwon.Pou satisfè egzijans sa a, yo dwe devlope teknoloji ki ka fè sentèz fim plat ki pi wo nan tanperati ki pi ba yo.Fim SiN ak SiOx yo te etidye anpil lè l sèvi avèk plasma ECR ak yon nouvo teknoloji plasma depo chimik vapè (PCVD) ak yon plasma helicoïdal, epi yo te rive nan yon nivo pratik nan itilizasyon fim izolasyon interlayer pou pi gwo echèl sikui entegre, elatriye.
Tan poste: Nov-08-2022