A Chemical Vapor Deposition (CVD) technológia olyan filmképző technológia, amely melegítést, plazmafokozást, fotorásegítést és egyéb eszközöket használ annak érdekében, hogy a gáznemű anyagok szilárd filmeket képezzenek a hordozó felületén normál vagy alacsony nyomású kémiai reakcióval.
Általában azt a reakciót, amelyben a reagens gáz, és az egyik termék szilárd anyag, CVD-reakciónak nevezik.CVD-reakcióval sokféle bevonat létezik, különösen a félvezető eljárásban.Például a félvezető területen a nyersanyagok finomítása, a jó minőségű félvezető egykristály filmek készítése, valamint a polikristályos és amorf filmek gyarapodása, az elektronikai eszközöktől az integrált áramkörökig, mind a CVD technológiához kapcsolódnak.Emellett az anyagok felületkezelését is kedvelik az emberek.Például különféle anyagok, mint például gépek, reaktorok, repülőgépek, orvosi és vegyi berendezések felhasználhatók funkcionális bevonatok készítésére, amelyek korrózióálló, hőálló, kopásálló és felületerősítőek CVD filmképző módszerrel, különböző követelményeik szerint.
—— Ezt a cikket a Guangdong Zhenhua, avákuum bevonó berendezés
Feladás időpontja: 2023-04-04