A vákuum-magnetronos porlasztás különösen alkalmas reaktív bevonatokhoz.Valójában ezzel az eljárással bármilyen oxid-, karbid- és nitridanyag vékony filmrétegét lehet lerakni.Ezen túlmenően az eljárás különösen alkalmas többrétegű filmszerkezetek felhordására is, beleértve az optikai mintákat, színes filmeket, kopásálló bevonatokat, nano-laminátumokat, szuperrács bevonatokat, szigetelő fóliákat stb. Már 1970-től kiváló minőségű optikai filmek leválasztási példákat fejlesztettek ki különféle optikai filmréteg anyagokhoz.Ezek az anyagok közé tartoznak az átlátszó vezető anyagok, félvezetők, polimerek, oxidok, karbidok és nitridek, míg a fluoridokat olyan eljárásokban használják, mint például a párolgásos bevonat.
A magnetronos porlasztási eljárás fő előnye, hogy reaktív vagy nem reaktív bevonási eljárásokat alkalmaznak ezen anyagok rétegeinek felhordására, és jól szabályozzák a réteg összetételét, a filmvastagságot, a rétegvastagság egyenletességét és a réteg mechanikai tulajdonságait.Az eljárás a következő jellemzőkkel rendelkezik.
1、Nagy lerakódási sebesség.A nagy sebességű magnetron elektródák használatával nagy ionáramlás érhető el, ami hatékonyan javítja a bevonási folyamat leválasztási sebességét és porlasztási sebességét.Más porlasztásos bevonási eljárásokkal összehasonlítva a magnetronos porlasztás nagy kapacitással és nagy hozammal rendelkezik, és széles körben használják különféle ipari termelésben.
2 、Magas energiahatékonyság.A mágneses porlasztási cél általában a 200 V és 1000 V közötti feszültséget választja, általában 600 V, mivel a 600 V feszültség éppen az energiahatékonyság legmagasabb effektív tartományába esik.
3. Alacsony porlasztási energia.A magnetron célfeszültsége alacsony, és a mágneses tér a plazmát a katód közelében korlátozza, ami megakadályozza, hogy nagyobb energiájú részecskék induljanak el a hordozóra.
4, Alacsony aljzathőmérséklet.Az anód használható a kisülés során keletkező elektronok elvezetésére, nincs szükség a hordozó alátámasztására, ami hatékonyan csökkentheti a hordozó elektronbombázását.Így az aljzat hőmérséklete alacsony, ami nagyon ideális néhány olyan műanyag aljzathoz, amelyek nem nagyon ellenállnak a magas hőmérsékletű bevonatnak.
5, A mágneses porlasztó célfelület maratása nem egyenletes.A mágneses porlasztó célfelület egyenetlenségét a célpont egyenetlen mágneses tere okozza.A célmaratási arány helye nagyobb, így a cél effektív kihasználtsága alacsony (csak 20-30%-os kihasználtság).Ezért a célkihasználás javítása érdekében a mágneses téreloszlást bizonyos eszközökkel módosítani kell, vagy a katódban mozgó mágnesek alkalmazása is javíthatja a célkihasználást.
6. Összetett cél.Kompozit célbevonat-ötvözet fóliát készíthet.Jelenleg a kompozit magnetron célporlasztási eljárást sikeresen bevonták Ta-Ti ötvözet, (Tb-Dy)-Fe és Gb-Co ötvözet fóliára.Az összetett célszerkezetnek négy fajtája van, ezek a kör alakú, a négyzet alakú, a kis négyzetes berakott célpontok és a szektoros intarziás célpontok.Az ágazati berakásos célstruktúra használata jobb.
7. Alkalmazások széles skálája.A magnetronos porlasztásos folyamat számos elemet képes lerakni, a gyakoriak a következők: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO stb.
A magnetronos porlasztás az egyik legszélesebb körben alkalmazott bevonási eljárás kiváló minőségű filmek előállítására.Az új katódnak köszönhetően magas a célkihasználás és a leválasztási sebesség.A Guangdong Zhenhua Technology vákuum-magnetronos porlasztásos bevonási eljárást ma már széles körben használják nagy felületű szubsztrátumok bevonására.Az eljárást nem csak egyrétegű filmlerakásra, hanem többrétegű filmbevonatra is használják, emellett a tekercstől a tekercsig terjedő folyamatban is használják csomagolófólia, optikai fólia, laminálás és egyéb filmbevonat készítésére.
Feladás időpontja: 2022.11.07