Valójában az ionsugárral segített leválasztási technológia egy kompozit technológia.Ez egy kompozit felületi ionkezelési technika, amely ötvözi az ionimplantációt és a fizikai gőzleválasztásos filmtechnológiát, valamint egy új típusú ionnyaláb felületoptimalizálási technikát.A fizikai gőzleválasztás előnyei mellett ez a technika szigorúbb szabályozási feltételek mellett folyamatosan képes bármilyen vastagságú filmet növeszteni, jelentősen javítani a filmréteg kristályosságát és orientációját, növelni a filmréteg/szubsztrát tapadási szilárdságát, javítani a sűrűséget. a filmrétegből, és ideális sztöchiometrikus arányú összetett filmeket szintetizálni szobahőmérsékleten, beleértve az új típusú filmeket, amelyeket szobahőmérsékleten és nyomáson nem lehet előállítani.Az ionsugárral segített leválasztás nemcsak megőrzi az ionbeültetési eljárás előnyeit, hanem a szubsztrátumtól teljesen eltérő filmmel is beborítja a hordozót.
Mindenféle fizikai gőzleválasztásnál és kémiai gőzleválasztásnál segédbombázó ionágyúkat lehet hozzáadni egy IBAD-rendszer kialakításához, és két általános IBAD-eljárás létezik, amint az a képen látható:
Amint az (a) ábrán látható, egy elektronsugaras párolgási forrást használnak a filmréteg besugárzására az ionágyúból kibocsátott ionsugárral, így valósítják meg az ionsugárral segített leválasztást.Előnye, hogy az ionnyaláb energiája és iránya állítható, de párolgási forrásként csak egyetlen vagy korlátozott ötvözet vagy vegyület használható, valamint az ötvözetkomponens és vegyület gőznyomása eltérő, ami megnehezíti hogy megkapjuk az eredeti párolgásforrás-összetétel filmrétegét.
A (b) képen az ionsugaras porlasztással segített leválasztás, más néven kettős ionsugaras porlasztásos leválasztás látható, amelyben az ionsugaras porlasztó bevonóanyagból készült célpont, a porlasztó termékek forrásként szolgálnak.A szubsztrátumra történő lerakódás során az ionsugár porlasztással segített leválasztás más ionforrással történő besugárzással valósul meg.Ennek a módszernek az az előnye, hogy maguk a porlasztott részecskék bizonyos energiával rendelkeznek, így jobb a tapadás a hordozóval;a céltárgy bármely komponense lehet porlasztott bevonat, de lehet reakcióporlasztás is a fóliába, könnyen beállítható a fólia összetétele, de a lerakódási hatékonysága alacsony, a cél drága, és vannak problémák, mint például a szelektív porlasztás.
Feladás időpontja: 2022.11.08