Կոշտ ծածկույթների ավանդադրման ավանդական տեխնիկայի ներածություն

1. Ջերմային CVD տեխնոլոգիա

Կոշտ ծածկույթները հիմնականում մետաղական կերամիկական ծածկույթներ են (TiN և այլն), որոնք առաջանում են ծածկույթում մետաղի ռեակցիայի և ռեակտիվ գազաֆիկացման արդյունքում։Սկզբում ջերմային CVD տեխնոլոգիան օգտագործվել է ջերմային էներգիայի միջոցով համակցված ռեակցիայի ակտիվացման էներգիան ապահովելու համար 1000 ℃ բարձր ջերմաստիճանում:Այս ջերմաստիճանը հարմար է միայն ցեմենտացված կարբիդային գործիքների վրա TiN-ի և այլ կոշտ ծածկույթների տեղադրման համար:Առայժմ, դեռևս կարևոր տեխնոլոգիա է TiN-Al20 կոմպոզիտային ծածկույթների տեղադրումը ցեմենտացված կարբիդային գործիքների գլխիկների վրա:

2. Սնամեջ կաթոդային իոնային ծածկույթ և տաք մետաղալար աղեղային իոնային ծածկույթ

1980-ական թվականներին սնամեջ կաթոդային իոնային ծածկույթը և տաք մետաղալարով աղեղային իոնային ծածկույթը օգտագործվել են ծածկված կտրող գործիքները նստեցնելու համար:Այս երկու իոնային ծածկույթի տեխնոլոգիաներն էլ աղեղային լիցքաթափման իոնային ծածկույթի տեխնոլոգիաներ են՝ մետաղի իոնացման մակարդակով մինչև 20%-40%:

3. Կաթոդային աղեղային իոնային ծածկույթ

Կաթոդիկ աղեղի իոնային ծածկույթի առաջացումը հանգեցրեց կաղապարների վրա կոշտ ծածկույթների տեղադրման տեխնոլոգիայի զարգացմանը:Կաթոդիկ աղեղի իոնային ծածկույթի իոնացման արագությունը կազմում է 60% ~ 90%, ինչը թույլ է տալիս մեծ թվով մետաղական իոններ և ռեակցիոն գազի իոններ հասնել աշխատանքային մասի մակերեսին և դեռևս պահպանել բարձր ակտիվություն, ինչը հանգեցնում է ռեակցիայի նստվածքի և ձևավորման կոշտ ծածկույթների, ինչպիսիք են. TiN.Ներկայումս կաթոդային աղեղային իոնային ծածկույթի տեխնոլոգիան հիմնականում օգտագործվում է կաղապարների վրա կոշտ ծածկույթներ տեղադրելու համար:

Կաթոդային աղեղի աղբյուրը պինդ վիճակի գոլորշիացման աղբյուր է առանց ֆիքսված հալած լողավազանի, և աղեղի աղբյուրի դիրքը կարող է կամայականորեն տեղադրվել՝ բարելավելով ծածկույթի սենյակի տարածքի օգտագործման արագությունը և մեծացնելով վառարանի բեռնման հզորությունը:Կաթոդային աղեղային աղբյուրների ձևերը ներառում են փոքր շրջանաձև կաթոդային աղեղային աղբյուրներ, սյունաձև աղեղային աղբյուրներ և ուղղանկյուն հարթ խոշոր աղեղային աղբյուրներ:Փոքր աղեղային աղբյուրների, սյունաձև աղեղային աղբյուրների և խոշոր աղեղային աղբյուրների տարբեր բաղադրիչները կարող են դասավորվել առանձին՝ բազմաշերտ թաղանթները և նանո բազմաշերտ թաղանթները տեղադրելու համար:Միևնույն ժամանակ, կաթոդային աղեղի իոնային ծածկույթի մետաղի իոնացման բարձր արագության շնորհիվ, մետաղական իոնները կարող են կլանել ավելի շատ ռեակցիայի գազեր, ինչը հանգեցնում է գործընթացի լայն շրջանակի և պարզ գործողության՝ գերազանց կոշտ ծածկույթներ ստանալու համար:Այնուամենայնիվ, ծածկույթի շերտի միկրոկառուցվածքում կան կոպիտ կաթիլներ, որոնք ստացվում են կաթոդային աղեղ իոնային ծածկույթով:Վերջին տարիներին բազմաթիվ նոր տեխնոլոգիաներ են ի հայտ եկել թաղանթի շերտի կառուցվածքը կատարելագործելու համար, ինչը բարելավել է աղեղ իոնային ծածկույթի ֆիլմի որակը:

——Այս հոդվածը հրապարակվել է Guangdong Zhenhua Technology, aօպտիկական ծածկույթի մեքենաներ արտադրող.