HFCVD0606

Ruang pelapis vakum dari peralatan pengendapan uap kimia mengadopsi struktur pendingin air lapis ganda yang independen, yang efisien dan seragam dalam pendinginan, dan memiliki struktur yang aman dan stabil.Peralatan ini dirancang dengan pintu ganda, beberapa jendela observasi dan beberapa antarmuka ekspansi, yang nyaman untuk koneksi eksternal periferal tambahan seperti pengukuran suhu inframerah, analisis spektral, pemantauan video, dan termokopel.Konsep desain lanjutan membuat perombakan dan pemeliharaan harian, perubahan konfigurasi, dan peningkatan peralatan menjadi mudah dan sederhana, serta secara efektif mengurangi biaya penggunaan dan peningkatan.

Fitur peralatan:

1. Komponen inflasi peralatan terutama meliputi pengukur aliran massa, katup solenoid, dan tangki pencampur gas, yang memastikan kontrol aliran gas proses yang akurat, pencampuran yang seragam dan isolasi yang aman dari berbagai gas, dan dapat memilih komponen sistem gas untuk penggunaan sumber gas cair, memfasilitasi pemilihan yang dipersonalisasi dari berbagai sumber karbon cair, dan penggunaan yang aman dari berlian konduktif sintetik dan sumber boron cair elektroda.
2. Rakitan ekstraksi udara dilengkapi dengan pompa vakum baling-baling putar yang senyap dan efisien serta sistem pompa molekuler turbo yang dapat dengan cepat memenuhi lingkungan latar belakang vakum tinggi.Pengukur vakum komposit dengan pengukur resistansi dan pengukur ionisasi digunakan untuk pengukuran vakum, serta sistem pengukur film kapasitif yang dapat mengukur tekanan berbagai gas proses dalam rentang yang luas.Tekanan deposisi sepenuhnya otomatis dikendalikan oleh katup kontrol proporsional presisi tinggi.
3. Komponen air pendingin dilengkapi dengan tekanan air multi-saluran, aliran, pengukuran suhu, dan pemantauan otomatis perangkat lunak.Komponen pendingin yang berbeda tidak tergantung satu sama lain, yang nyaman untuk diagnosis kesalahan yang cepat.Semua cabang memiliki sakelar katup independen, yang aman dan efisien.
4. Komponen kontrol listrik mengadopsi layar LCD antarmuka manusia-mesin ukuran besar dan bekerja sama dengan kontrol otomatis penuh PLC untuk memfasilitasi pengeditan dan impor formula proses.Kurva grafis secara visual menampilkan perubahan dan nilai dari berbagai parameter, dan parameter peralatan dan proses secara otomatis direkam dan diarsipkan untuk memfasilitasi penelusuran masalah dan analisis statistik data.
5. Rak benda kerja dilengkapi dengan motor servo untuk mengontrol pengangkatan dan penurunan meja substrat.Tabel substrat grafit atau tembaga merah dapat dipilih.Suhu diukur dengan termokopel.
6. Komponen rak dapat dirancang secara keseluruhan atau terpisah sesuai dengan kebutuhan pelanggan untuk memenuhi persyaratan penanganan khusus pelanggan.
7. Komponen pelat penyegelan indah dan elegan.Pelat penyegel di area modul fungsional yang berbeda dari peralatan dapat dengan cepat dibongkar atau dibuka dan ditutup secara terpisah, yang sangat nyaman digunakan.

Peralatan CVD filamen panas cocok untuk menyimpan bahan berlian, termasuk lapisan film tipis, film tebal mandiri, berlian mikrokristalin dan nanokristalin, berlian konduktif, dll. Hal ini terutama digunakan untuk lapisan pelindung tahan aus dari alat pemotong karbida semen, bahan semikonduktor seperti silikon dan silikon karbida, lapisan pembuangan panas perangkat, elektroda berlian konduktif yang didoping boron, desinfeksi ozon air elektrolitik atau pengolahan limbah.