Teknologi deposisi uap kimia plasma yang ditingkatkan busur kawat panas menggunakan pistol busur kawat panas untuk memancarkan plasma busur, disingkat teknologi PECVD busur kawat panas.Teknologi ini mirip dengan teknologi pelapisan ion senapan busur kawat panas, tetapi perbedaannya adalah bahwa film padat yang diperoleh dengan pelapisan ion senapan busur kawat panas menggunakan aliran elektron cahaya busur yang dipancarkan oleh senapan busur kawat panas untuk memanaskan dan menguapkan logam di wadah, sementara PECVD lampu busur kawat panas diberi makan dengan gas reaksi, seperti CH4 dan H2, yang digunakan untuk menyimpan film berlian.Dengan mengandalkan arus pelepasan busur kepadatan tinggi yang dipancarkan oleh senapan busur kawat panas, ion gas reaktif tereksitasi untuk mendapatkan berbagai partikel aktif, termasuk ion gas, ion atom, gugus aktif, dan sebagainya.
Dalam perangkat PECVD busur kawat panas, dua kumparan elektromagnetik masih dipasang di luar ruang pelapis, menyebabkan aliran elektron dengan kepadatan tinggi berputar selama gerakan menuju anoda, meningkatkan kemungkinan tumbukan dan ionisasi antara aliran elektron dan gas reaksi. .Kumparan elektromagnetik juga dapat menyatu menjadi kolom busur untuk meningkatkan kerapatan plasma dari seluruh ruang pengendapan.Dalam plasma busur, densitas partikel aktif ini tinggi, membuatnya lebih mudah untuk menyimpan film intan dan lapisan film lainnya pada benda kerja.
——Artikel ini dirilis oleh Guangdong Zhenhua Technology, aprodusen mesin pelapis optik.
Waktu posting: Mei-05-2023