Selamat datang di Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
berita industri
-
Busur kawat panas meningkatkan teknologi deposisi uap kimia plasma
Teknologi deposisi uap kimia plasma yang ditingkatkan busur kawat panas menggunakan pistol busur kawat panas untuk memancarkan plasma busur, disingkat teknologi PECVD busur kawat panas.Teknologi ini mirip dengan teknologi pelapisan ion hot wire arc gun, tetapi perbedaannya adalah film padat yang diperoleh dengan ...Baca selengkapnya -
Pengantar Teknik Konvensional untuk Menyimpan Lapisan Keras
1. Teknologi CVD termal Pelapis keras sebagian besar adalah pelapis keramik logam (TiN, dll.), yang dibentuk oleh reaksi logam dalam pelapisan dan gasifikasi reaktif.Pada awalnya, teknologi CVD termal digunakan untuk menyediakan energi aktivasi reaksi kombinasi dengan energi panas pada ...Baca selengkapnya -
Apa itu lapisan sumber penguapan resistansi?
Pelapisan sumber penguapan resistensi adalah metode pelapisan penguapan vakum dasar."Evaporasi" mengacu pada metode persiapan film tipis di mana bahan pelapis dalam ruang vakum dipanaskan dan diuapkan, sehingga atom atau molekul material menguap dan keluar dari ...Baca selengkapnya -
Pengantar Teknologi Pelapisan Ion Busur Katodik
Teknologi pelapisan ion busur katodik menggunakan teknologi pelepasan busur medan dingin.Aplikasi paling awal teknologi pelepasan busur medan dingin di bidang pelapisan dilakukan oleh Multi Arc Company di Amerika Serikat.Nama Inggris dari prosedur ini adalah arc ionplating (AIP).Lapisan ion busur katoda...Baca selengkapnya -
Penerapan Film Tipis Optik di Industri Kacamata Dilapisi
Ada banyak jenis substrat untuk kacamata dan lensa, seperti CR39, PC (polikarbonat), 1,53 Trivex156, plastik indeks bias sedang, kaca, dll. Untuk lensa korektif, transmisi resin dan lensa kaca hanya sekitar 91%, dan sebagian cahaya dipantulkan kembali oleh kedua...Baca selengkapnya -
Fitur mesin pelapis vakum
1. Film lapisan vakum sangat tipis (biasanya 0,01-0,1um) |2. Lapisan vakum dapat digunakan untuk banyak plastik, seperti ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA, dll. 3. Suhu pembentukan film rendah.Dalam industri besi dan baja, suhu lapisan galvanisasi panas umumnya antara 400 ℃...Baca selengkapnya -
Pengantar teknologi film tipis fotovoltaik surya
Setelah penemuan efek fotovoltaik di Eropa pada tahun 1863, Amerika Serikat membuat sel fotovoltaik pertama dengan (Se) pada tahun 1883. Pada awalnya, sel fotovoltaik terutama digunakan di bidang kedirgantaraan, militer, dan lainnya.Dalam 20 tahun terakhir, penurunan tajam biaya fotovolta...Baca selengkapnya -
Alur Proses Mesin Pelapis Sputtering
1. Substrat pembersih bombardir 1.1) Mesin pelapis sputtering menggunakan pelepasan pijar untuk membersihkan substrat.Artinya, isi gas argon ke dalam ruangan, tegangan pelepasan sekitar 1000V, Setelah menyalakan catu daya, pelepasan pijar dihasilkan, dan substrat dibersihkan dengan ...Baca selengkapnya -
Aplikasi film optik pada produk ponsel
Penerapan film tipis optik pada produk elektronik konsumen seperti ponsel telah bergeser dari lensa kamera tradisional ke arah yang beragam, seperti lensa kamera, pelindung lensa, filter pemutus inframerah (IR-CUT), dan lapisan NCVM pada penutup baterai ponsel. .Spesifikasi kamera...Baca selengkapnya -
Karakteristik peralatan pelapis CVD
Teknologi pelapisan CVD memiliki karakteristik sebagai berikut: 1. Operasi proses peralatan CVD relatif sederhana dan fleksibel, dan dapat menyiapkan film tunggal atau komposit dan film paduan dengan proporsi berbeda;2. Lapisan CVD memiliki aplikasi yang luas, dan dapat digunakan untuk ...Baca selengkapnya -
Apa saja proses mesin pelapis vakum?Apa prinsip kerjanya?
Proses mesin pelapisan vakum dibagi menjadi: pelapisan penguapan vakum, pelapisan sputtering vakum dan pelapisan ion vakum.1 、 Lapisan penguapan vakum Di bawah kondisi vakum, buat bahan menguap ， seperti logam, paduan logam, dll. Kemudian simpan di permukaan substrat ...Baca selengkapnya -
Untuk apa mesin vakum?
1, Apa itu proses pelapisan vakum?Apa fungsinya?Apa yang disebut proses pelapisan vakum menggunakan penguapan dan sputtering di lingkungan vakum untuk memancarkan partikel bahan film, Disimpan pada logam, kaca, keramik, semikonduktor dan bagian plastik untuk membentuk lapisan pelapis, untuk dekorasi...Baca selengkapnya -
Persyaratan lingkungan untuk peralatan pelapis vakum
Karena peralatan pelapis vakum bekerja dalam kondisi vakum, peralatan tersebut harus memenuhi persyaratan vakum untuk lingkungan.Standar industri untuk berbagai jenis peralatan pelapis vakum diformulasikan di negara saya (termasuk kondisi teknis umum untuk peralatan pelapis vakum,...Baca selengkapnya -
Karakteristik dan aplikasi pelapisan ion
Jenis film Bahan film Substrat Karakteristik film dan aplikasi Film logam Crai、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt baja, baja ringanTitanium alloy, baja karbon tinggi, baja ringanTitanium alloykaca keras plastik Nikel, baja Inconel, silikon baja tahan karat Anti-aus ...Baca selengkapnya -
Lapisan ion vakum dan klasifikasinya
Pelapisan ion vakum (singkatnya pelapisan ion) adalah teknologi perawatan permukaan baru yang berkembang pesat pada tahun 1970-an, yang diusulkan oleh DM Mattox dari Perusahaan Somdia di Amerika Serikat pada tahun 1963. Ini mengacu pada proses penggunaan sumber penguapan atau sputtering target untuk menguap atau me...Baca selengkapnya
