Vacuum ion plating (ion plating for short) bụ teknụzụ ọgwụgwọ elu ọhụrụ nke emepụtara ngwa ngwa n'afọ ndị 1970, nke DM Mattox nke ụlọ ọrụ Somdia dị na United States tụpụtara na 1963. Ọ na-ezo aka na usoro nke iji isi iyi evaporation ma ọ bụ sputtering. ebu n'obi ikpochapụ ma ọ bụ fesa ihe nkiri na ikuku ikuku.
Nke mbụ bụ ịmepụta ikuku ígwè site na ikpo ọkụ na ikpochapụ ihe nkiri ahụ, bụ nke a na-etinye n'ime akụkụ ionized n'ime vapo metal na atoms na-anọpụ iche nke ike dị elu na oghere ikuku gas na-agbapụta, ma rute mkpụrụ iji mepụta ihe nkiri site na omume nke ọkụ eletrik. ;nke ikpeazụ na-eji ion dị elu ike (Dịka ọmụmaatụ, Ar +) na-atụba n'elu ihe nkiri ahụ nke mere na ihe ndị ahụ sputtered na-ionized n'ime ion ma ọ bụ nnukwu ume na-anọpụ iche atom site na oghere nke ikuku gas, na-aghọta n'elu nke mkpụrụ. ime ihe nkiri.
E bipụtara akụkọ a bụ Guangdong Zhenhua, onye na-emepụta iheakụrụngwa mkpuchi agụụ
Oge nzipu: Mar-10-2023