1. Uppgufunarhraði mun hafa áhrif á eiginleika uppgufaðrar húðunar
Uppgufunarhraði hefur mikil áhrif á útfellda filmu.Vegna þess að húðunarbyggingin sem myndast við lágan útfellingarhraða er laus og auðvelt að framleiða stórar agnir, er mjög öruggt að velja hærra uppgufunarhraða til að tryggja þéttleika húðunarbyggingarinnar.Þegar þrýstingur afgangsgass í lofttæmishólfinu er stöðugur er sprengjuhraði undirlagsins stöðugt gildi.Þess vegna mun afgangsgasið sem er í útfelldu filmunni eftir að hafa valið hærra útfellingarhraða minnka, þannig að efnahvarfið milli leifargassameindanna og uppgufuðu filmuagnanna minnkar.Þess vegna er hægt að bæta hreinleika filmunnar.Það skal tekið fram að ef útfellingarhraði er of hratt getur það aukið innra álag filmunnar, það mun auka galla í filmunni og jafnvel leiða til þess að filman rofnar.Sérstaklega, í því ferli að hvarfga uppgufun, til að láta hvarfgasið hvarfast að fullu við agnir uppgufunarfilmuefnisins, getur þú valið lægra útfellingarhraða.Auðvitað velja mismunandi efni mismunandi uppgufunarhraða.Sem hagnýtt dæmi - útfelling endurskinsfilmunnar, ef filmuþykktin er 600×10-8cm og uppgufunartíminn er 3s, er endurskinið 93%.Hins vegar, ef hægt er á uppgufunarhraðanum við sömu þykktarskilyrði, tekur það 10 mínútur að klára filmuútfellinguna.Á þessum tíma er filmuþykktin sú sama.Hins vegar hefur endurskinið farið niður í 68%.
2. Hitastig undirlagsins mun hafa áhrif á uppgufunarhúð
Hitastig undirlagsins hefur mikil áhrif á uppgufunarhúðina.Auðvelt er að fjarlægja leifar gassameindanna sem aðsogast á yfirborð undirlagsins við háan hitastig undirlagsins.Sérstaklega er útrýming vatnsgufusameinda mikilvægara.Þar að auki, við hærra hitastig, er ekki aðeins auðvelt að stuðla að umbreytingu frá líkamlegu aðsogs til efnafræðilegs aðsogs og auka þannig bindikraft milli agna.Þar að auki getur það einnig dregið úr muninum á endurkristöllunarhitastigi gufusameinda og undirlagshitastigsins og þannig dregið úr eða útrýmt innri streitu á filmubundnu viðmótinu.Þar að auki, vegna þess að hitastig undirlagsins er tengt kristallað ástandi filmunnar, er oft auðvelt að mynda myndlausa eða örkristallaða húðun við lágt undirlagshitastig eða engin hitun.Þvert á móti, þegar hitastigið er hátt, er auðvelt að mynda kristallaða húð.Að auka hitastig undirlagsins er einnig til þess fallið að bæta vélrænni eiginleika lagsins.Auðvitað ætti hitastig undirlagsins ekki að vera of hátt til að koma í veg fyrir uppgufun á húðinni.
3. Afgangs gasþrýstingur í lofttæmishólfinu mun hafa áhrif á eiginleika filmunnar
Þrýstingur afgangsgass í lofttæmishólfinu hefur mikil áhrif á frammistöðu himnunnar.Afgangsgassameindirnar með of háan þrýsting eru ekki aðeins auðvelt að rekast á uppgufunaragnirnar, sem mun draga úr hreyfiorku fólks á undirlaginu og hafa áhrif á viðloðun kvikmyndarinnar.Að auki mun of hár leifar gasþrýstingur hafa alvarleg áhrif á hreinleika filmunnar og draga úr afköstum lagsins.
4. Uppgufun hitastig áhrif á uppgufun lag
Áhrif uppgufunarhitastigs á frammistöðu himnunnar eru sýnd með breytingu á uppgufunarhraða með hitastigi.Þegar uppgufunarhitastigið er hátt mun uppgufunarhitinn minnka.Ef himnuefnið er gufað upp yfir uppgufunarhitastiginu getur jafnvel lítilsháttar breyting á hitastigi valdið mikilli breytingu á uppgufunarhraða himnuefnisins.Þess vegna er mjög mikilvægt að stjórna uppgufunarhitanum nákvæmlega meðan á útfellingu kvikmyndarinnar stendur til að forðast mikinn hitastig þegar uppgufunargjafinn er hituð.Fyrir filmuefnið sem auðvelt er að sublimera er einnig mjög mikilvægt að velja efnið sjálft sem hitari fyrir uppgufun og aðrar ráðstafanir.
5. Hreinsunarástand undirlags og húðunarhólfs mun hafa áhrif á frammistöðu húðunar
Ekki er hægt að hunsa áhrif hreinleika undirlagsins og húðunarhólfsins á frammistöðu lagsins.Það mun ekki aðeins hafa alvarleg áhrif á hreinleika filmunnar, heldur einnig draga úr viðloðun filmunnar.Þess vegna eru hreinsun undirlagsins, hreinsunarmeðferð á lofttæmihúðunarhólfinu og tengdum íhlutum þess (eins og undirlagsgrind) og yfirborðshreinsun öll ómissandi ferli í lofttæmihúðunarferlinu.
Birtingartími: 28-2-2023