HFCVD0606

La camera di rivestimento sottovuoto dell'apparecchiatura di deposizione chimica da vapore adotta una struttura indipendente di raffreddamento ad acqua a doppio strato, che è efficiente e uniforme nel raffreddamento e ha una struttura sicura e stabile.L'apparecchiatura è progettata con doppie porte, più finestre di osservazione e più interfacce di espansione, che è conveniente per il collegamento esterno di periferiche ausiliarie come la misurazione della temperatura a infrarossi, l'analisi spettrale, il monitoraggio video e la termocoppia.Il concetto di progettazione avanzata rende la revisione e la manutenzione quotidiana, la modifica della configurazione e l'aggiornamento dell'apparecchiatura facile e semplice e riduce efficacemente i costi di utilizzo e aggiornamento.

Caratteristiche dell'attrezzatura:

1. I componenti di gonfiaggio dell'apparecchiatura includono principalmente misuratore di portata massica, elettrovalvola e serbatoio di miscelazione del gas, che garantiscono il controllo accurato del flusso del gas di processo, la miscelazione uniforme e l'isolamento sicuro di diversi gas e possono selezionare i componenti del sistema del gas per l'uso di fonte di gas liquido, facilitano la selezione personalizzata di un'ampia gamma di fonti di carbonio liquido e l'uso sicuro di fonti di diamante sintetico conduttivo e di boro liquido per elettrodi.
2. Il gruppo di estrazione dell'aria è dotato di una pompa per vuoto rotativa a palette silenziosa ed efficiente e di un sistema di pompa turbomolecolare in grado di soddisfare rapidamente l'ambiente di fondo ad alto vuoto.Il vacuometro composito con misuratore di resistenza e misuratore di ionizzazione viene utilizzato per la misurazione del vuoto, così come il sistema di misurazione del film capacitivo che può misurare la pressione di diversi gas di processo in un'ampia gamma.La pressione di deposizione è completamente automatica controllata da una valvola di controllo proporzionale ad alta precisione.
3. Il componente dell'acqua di raffreddamento è dotato di pressione dell'acqua multicanale, flusso, misurazione della temperatura e monitoraggio automatico del software.Diversi componenti di raffreddamento sono indipendenti l'uno dall'altro, il che è utile per una rapida diagnosi dei guasti.Tutti i rami hanno interruttori delle valvole indipendenti, che sono sicuri ed efficienti.
4. I componenti di controllo elettrico adottano uno schermo LCD di interfaccia uomo-macchina di grandi dimensioni e collaborano con il controllo completamente automatico del PLC per facilitare la modifica e l'importazione della formula di processo.La curva grafica visualizza visivamente le modifiche ei valori di vari parametri, mentre i parametri dell'apparecchiatura e del processo vengono registrati e archiviati automaticamente per facilitare la tracciabilità dei problemi e l'analisi statistica dei dati.
5. Il portapezzo è dotato di un servomotore per controllare il sollevamento e l'abbassamento del tavolo del substrato.È possibile selezionare la tabella del substrato in grafite o rame rosso.La temperatura è misurata da una termocoppia.
6. I componenti del rack possono essere progettati nel loro insieme o separatamente in base alle esigenze del cliente per soddisfare le esigenze di movimentazione speciali dei clienti.
7. I componenti della piastra di tenuta sono belli ed eleganti.Le piastre di tenuta in diverse aree del modulo funzionale dell'apparecchiatura possono essere rapidamente smontate o aperte e chiuse in modo indipendente, il che è molto comodo da usare.

L'attrezzatura CVD a filamento caldo è adatta per depositare materiali diamantati, tra cui rivestimento a film sottile, film spesso autoportante, diamante microcristallino e nanocristallino, diamante conduttivo, ecc. Viene utilizzato principalmente per il rivestimento protettivo resistente all'usura di utensili da taglio in carburo cementato, materiali semiconduttori come il silicio e il carburo di silicio, il rivestimento di dissipazione del calore dei dispositivi, l'elettrodo diamantato conduttivo drogato con boro, la disinfezione con ozono dell'acqua elettrolitica o il trattamento delle acque reflue.