La tecnologia di deposizione chimica in fase di vapore (CVD) è una tecnologia di formazione di film che utilizza il riscaldamento, il miglioramento del plasma, la fotoassistenza e altri mezzi per fare in modo che le sostanze gassose producano film solidi sulla superficie del substrato attraverso una reazione chimica a pressione normale o bassa.
Generalmente, la reazione in cui il reagente è un gas e uno dei prodotti è un solido è chiamata reazione CVD.Esistono molti tipi di rivestimenti preparati mediante reazione CVD, specialmente nel processo dei semiconduttori.Ad esempio, nel campo dei semiconduttori, la raffinazione delle materie prime, la preparazione di film monocristallini semiconduttori di alta qualità e la crescita di film policristallini e amorfi, dai dispositivi elettronici ai circuiti integrati, sono tutti legati alla tecnologia CVD.Inoltre, il trattamento superficiale dei materiali è favorito dalle persone.Ad esempio, vari materiali come macchinari, reattori, apparecchiature aerospaziali, mediche e chimiche possono essere utilizzati per preparare rivestimenti funzionali con resistenza alla corrosione, resistenza al calore, resistenza all'usura e rinforzo superficiale mediante il metodo di formazione del film CVD in base alle loro diverse esigenze.
—— Questo articolo è pubblicato da Guangdong Zhenhua, un produttore diapparecchiature di rivestimento sottovuoto
Tempo di pubblicazione: mar-04-2023