Come tutti sappiamo, la definizione di semiconduttore è che ha una conduttività tra conduttori asciutti e isolanti, resistività tra metallo e isolante, che di solito a temperatura ambiente è compresa tra 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm. Negli ultimi anni, rivestimento di semiconduttori sottovuoto nelle principali società di semiconduttori, è chiaro che il suo status è sempre più elevato, soprattutto in alcuni metodi di ricerca tecnologia di sviluppo di circuiti di sistema integrato su larga scala per dispositivi di conversione magnetoelettrica, dispositivi emettitori di luce e altri lavori di sviluppo.Il rivestimento di semiconduttori sottovuoto ha un ruolo importante.
I semiconduttori sono caratterizzati dalle loro caratteristiche intrinseche, temperatura e concentrazione di impurità.I materiali di rivestimento semiconduttore sottovuoto si distinguono l'uno dall'altro principalmente per i suoi composti costituenti.Quasi tutti sono a base di boro, carbonio, silicio, germanio, arsenico, antimonio, tellurio, iodio, ecc., e alcuni relativamente pochi GaP, GaAs, lnSb, ecc. MnO, Cr₂O₃, Cu₂O, ecc.
L'evaporazione sotto vuoto, il rivestimento sputtering, il rivestimento ionico e altre apparecchiature possono eseguire il rivestimento semiconduttore sotto vuoto.Queste apparecchiature di rivestimento sono tutte diverse nel loro principio di funzionamento, ma tutte rendono il materiale di rivestimento del materiale semiconduttore depositato sul substrato e, come materiale del substrato, non vi è alcun requisito, può essere un semiconduttore o meno.Inoltre, rivestimenti con diverse proprietà elettriche e ottiche possono essere preparati sia mediante diffusione di impurità che impiantazione di ioni sulla superficie del substrato semiconduttore in un intervallo.Lo strato sottile risultante può anche essere lavorato come rivestimento di semiconduttori in generale.
Il rivestimento di semiconduttori sottovuoto è una presenza indispensabile nell'elettronica, sia che si tratti di dispositivi attivi che passivi.Con il continuo progresso della tecnologia di rivestimento dei semiconduttori sottovuoto, è diventato possibile un controllo preciso delle prestazioni del film.
Negli ultimi anni, il rivestimento amorfo e il rivestimento policristallino hanno compiuto rapidi progressi nella produzione di dispositivi fotoconduttivi, tubi ad effetto di campo rivestiti e celle solari ad alta efficienza.Inoltre, grazie allo sviluppo del rivestimento a semiconduttore sottovuoto e del film sottile dei sensori, che riduce notevolmente anche la difficoltà di selezione del materiale e semplifica gradualmente il processo di produzione.L'attrezzatura per il rivestimento di semiconduttori sottovuoto è diventata una presenza necessaria per le applicazioni dei semiconduttori.L'apparecchiatura è ampiamente utilizzata per il rivestimento a semiconduttore di dispositivi fotografici, celle solari, transistor rivestiti, emissione di campo, luce catodica, emissione di elettroni, elementi di rilevamento a film sottile, ecc.
La linea di rivestimento sputtering magnetron è progettata con un sistema di controllo completamente automatico, un'interfaccia uomo-macchina touch screen comoda e intuitiva.La linea è progettata con un menu di funzioni completo per ottenere il monitoraggio completo dello stato operativo per tutti i componenti della linea di produzione, l'impostazione dei parametri di processo, la protezione del funzionamento e le funzioni di allarme.L'intero sistema di controllo elettrico è sicuro, affidabile e stabile.Dotato di target di sputtering magnetron a doppia faccia superiore e inferiore o sistema di rivestimento su un solo lato.
L'apparecchiatura viene applicata principalmente a circuiti stampati in ceramica, condensatori ad alta tensione in chip e altri rivestimenti di substrati, le principali aree di applicazione sono i circuiti elettronici.
Tempo di pubblicazione: Nov-07-2022