1. La velocità di evaporazione influirà sulle proprietà del rivestimento evaporato
La velocità di evaporazione ha una grande influenza sul film depositato.Poiché la struttura del rivestimento formata da un basso tasso di deposizione è libera e facile da produrre un deposito di particelle di grandi dimensioni, è molto sicuro scegliere un tasso di evaporazione più elevato per garantire la compattezza della struttura del rivestimento.Quando la pressione del gas residuo nella camera a vuoto è costante, la velocità di bombardamento del substrato è un valore costante.Pertanto, il gas residuo contenuto nel film depositato dopo aver selezionato un tasso di deposizione più elevato sarà ridotto, riducendo così la reazione chimica tra le molecole di gas residuo e le particelle del film evaporato.Pertanto, la purezza del film depositato può essere migliorata.Va notato che se la velocità di deposizione è troppo elevata, può aumentare la sollecitazione interna del film, aumenterà i difetti nel film e persino portare alla rottura del film.In particolare, nel processo di placcatura per evaporazione reattiva, per far reagire completamente il gas di reazione con le particelle del materiale del film di evaporazione, è possibile selezionare una velocità di deposizione inferiore.Naturalmente, materiali diversi scelgono tassi di evaporazione diversi.Come esempio pratico– la deposizione del film riflettente, se lo spessore del film è 600×10-8cm e il tempo di evaporazione è 3s, la riflettività è del 93%.Tuttavia, se la velocità di evaporazione viene rallentata nelle stesse condizioni di spessore, sono necessari 10 minuti per completare la deposizione del film.In questo momento, lo spessore del film è lo stesso.Tuttavia, la riflettività è scesa al 68%.
2. La temperatura del substrato influirà sul rivestimento di evaporazione
La temperatura del substrato ha una grande influenza sul rivestimento di evaporazione.Le molecole di gas residuo adsorbite sulla superficie del substrato ad alta temperatura del substrato sono facili da rimuovere.Soprattutto l'eliminazione delle molecole di vapore acqueo è più importante.Inoltre, a temperature più elevate, non solo è facile promuovere la trasformazione dall'adsorbimento fisico all'adsorbimento chimico, aumentando così la forza di legame tra le particelle.Inoltre, può anche ridurre la differenza tra la temperatura di ricristallizzazione delle molecole di vapore e la temperatura del substrato, riducendo o eliminando così lo stress interno sull'interfaccia a base di film.Inoltre, poiché la temperatura del substrato è correlata allo stato cristallino della pellicola, è spesso facile formare rivestimenti amorfi o microcristallini in condizioni di bassa temperatura del substrato o assenza di riscaldamento.Al contrario, quando la temperatura è elevata, è facile formare un rivestimento cristallino.L'aumento della temperatura del substrato favorisce anche il miglioramento delle proprietà meccaniche del rivestimento.Naturalmente, la temperatura del substrato non dovrebbe essere troppo elevata per impedire l'evaporazione del rivestimento.
3. La pressione residua del gas nella camera a vuoto influirà sulle proprietà del film
La pressione del gas residuo nella camera a vuoto ha una grande influenza sulle prestazioni della membrana.Le molecole di gas residuo con una pressione troppo elevata non sono solo facili da scontrare con le particelle che evaporano, il che ridurrà l'energia cinetica delle persone sul substrato e influenzerà l'adesione del film.Inoltre, una pressione del gas residuo troppo elevata influirà seriamente sulla purezza del film e ridurrà le prestazioni del rivestimento.
4. Effetto della temperatura di evaporazione sul rivestimento di evaporazione
L'effetto della temperatura di evaporazione sulle prestazioni della membrana è mostrato dalla variazione della velocità di evaporazione con la temperatura.Quando la temperatura di evaporazione è alta, il calore di vaporizzazione diminuirà.Se il materiale della membrana viene evaporato al di sopra della temperatura di evaporazione, anche un leggero cambiamento di temperatura può causare un brusco cambiamento nella velocità di evaporazione del materiale della membrana.Pertanto, è molto importante controllare accuratamente la temperatura di evaporazione durante la deposizione del film per evitare un elevato gradiente di temperatura quando la sorgente di evaporazione viene riscaldata.Per il materiale del film che è facile da sublimare, è anche molto importante selezionare il materiale stesso come riscaldatore per l'evaporazione e altre misure.
5. Lo stato di pulizia del substrato e della camera di rivestimento influirà sulle prestazioni del rivestimento
L'effetto della pulizia del substrato e della camera di rivestimento sulle prestazioni del rivestimento non può essere ignorato.Non solo influenzerà seriamente la purezza del film depositato, ma ridurrà anche l'adesione del film.Pertanto, la purificazione del substrato, il trattamento di pulizia della camera di rivestimento sottovuoto e dei relativi componenti (come il telaio del substrato) e il degassamento superficiale sono tutti processi indispensabili nel processo di rivestimento sottovuoto.
Tempo di pubblicazione: 28 febbraio 2023