La tecnologia di deposizione di vapori chimici al plasma potenziata dall'arco a filo caldo utilizza la pistola ad arco a filo caldo per emettere plasma ad arco, abbreviato come tecnologia PECVD ad arco a filo caldo.Questa tecnologia è simile alla tecnologia di rivestimento ionico della pistola ad arco a filo caldo, ma la differenza è che il film solido ottenuto dal rivestimento ionico della pistola ad arco a filo caldo utilizza il flusso di elettroni ad arco emesso dalla pistola ad arco a filo caldo per riscaldare ed evaporare il metallo in il crogiolo, mentre la luce ad arco a filo caldo PECVD viene alimentata con gas di reazione, come CH4 e H2, che vengono utilizzati per depositare film diamantati.Facendo affidamento sulla corrente di scarica dell'arco ad alta densità emessa dalla pistola ad arco a filo caldo, gli ioni di gas reattivi vengono eccitati per ottenere varie particelle attive, inclusi ioni di gas, ioni atomici, gruppi attivi e così via.
Nel dispositivo PECVD ad arco a filo caldo, due bobine elettromagnetiche sono ancora installate all'esterno della camera di rivestimento, provocando la rotazione del flusso di elettroni ad alta densità durante il movimento verso l'anodo, aumentando la probabilità di collisione e ionizzazione tra il flusso di elettroni e il gas di reazione .La bobina elettromagnetica può anche convergere in una colonna ad arco per aumentare la densità del plasma dell'intera camera di deposizione.Nel plasma ad arco, la densità di queste particelle attive è elevata, facilitando il deposito di film diamantati e altri strati di film sul pezzo in lavorazione.
——Questo articolo è stato pubblicato da Guangdong Zhenhua Technology, aproduttore di macchine per rivestimento ottico.
Tempo di pubblicazione: maggio-05-2023