Le apparecchiature di rivestimento composito di magnetron sputtering e rivestimento catodico multi-arco ionico possono funzionare separatamente e simultaneamente;può essere depositato e preparato film di metallo puro, film composto di metallo o film composito;può essere un singolo strato di film e un film composito multistrato.
I suoi vantaggi come segue:
Non solo combina i vantaggi di vari rivestimenti ionici e tiene conto della preparazione e deposizione di film sottili per vari campi di applicazione, ma consente anche la deposizione e la preparazione di film monolitici multistrato o film compositi multistrato nello stesso vuoto camera di rivestimento contemporaneamente.
Le applicazioni degli strati di film depositati sono ampiamente utilizzate le sue tecnologie sono in una varietà di forme, le tipiche come segue:
(1) Il composto della tecnologia di sputtering del magnetron di non equilibrio e di placcatura ionica catodica.
Il suo dispositivo è mostrato come segue.Si tratta di un'apparecchiatura di rivestimento composto di target a magnetron colonnare e rivestimento di ioni ad arco catodico planare, adatto sia per il rivestimento di film composti per utensili che per il rivestimento di film decorativi.Per il rivestimento dell'utensile, il rivestimento catodico degli ioni arco viene utilizzato prima per il rivestimento dello strato di base, quindi il bersaglio del magnetron della colonna viene utilizzato per la deposizione di nitruro e altri strati di pellicola per ottenere una pellicola superficiale dell'utensile di lavorazione ad alta precisione.
Per il rivestimento decorativo, i film decorativi TiN e ZrN possono essere depositati prima mediante rivestimento ad arco catodico, quindi drogati con metallo utilizzando target magnetron e l'effetto di drogaggio è molto buono.
(2) Il composto di magnetron a doppio piano e tecniche di rivestimento con ioni d'arco a catodo a colonna.Il dispositivo è mostrato come segue.Viene utilizzata la tecnologia avanzata a doppio bersaglio, quando due bersagli gemelli affiancati sono collegati all'alimentazione a media frequenza, non solo supera l'avvelenamento da bersaglio di sputtering CC, fuoco e altri inconvenienti;e può depositare Al203, film di qualità di ossido di SiO2, in modo che la resistenza all'ossidazione delle parti rivestite sia aumentata e migliorata.Bersaglio colonnare multi-arco installato al centro della camera a vuoto, il materiale bersaglio può essere utilizzato Ti e Zr, non solo per mantenere i vantaggi di un'elevata velocità di dissociazione multi-arco, velocità di deposizione, ma può anche ridurre efficacemente le "goccioline" in il processo di deposizione di target multi-arco su piccolo piano, può depositare e preparare una bassa porosità di film metallici, film composti.Se Al e Si vengono utilizzati come materiali target per i target magnetron planari gemelli installati alla periferia, è possibile depositare e preparare film metallo-ceramici Al203 o Si0.Inoltre, alla periferia possono essere installati più piccoli piani di sorgente di evaporazione multi-arco e il suo materiale target può essere Cr o Ni, e possono essere depositati e preparati film metallici e film compositi multistrato.Pertanto, questa tecnologia di rivestimento composito è una tecnologia di rivestimento composito con molteplici applicazioni.
Tempo di pubblicazione: Nov-08-2022