מאפיינים טכניים של ציפוי אידוי ואקום

1. הציפוי אידוי ואקוםהתהליך כולל אידוי של חומרי סרט, הובלת אטומי אדים בוואקום גבוה, ותהליך של גרעין וצמיחה של אטומי אדים על פני השטח של חומר העבודה.

2. דרגת התצהיר ואקום של ציפוי אידוי ואקום גבוהה, בדרך כלל 10-510^-3Pa. הנתיב החופשי של מולקולות גז הוא 1~10 מ' מסדר גודל, שהוא הרבה יותר גדול מהמרחק ממקור האידוי לחומר העבודה, מרחק זה נקרא מרחק האידוי, בדרך כלל 300~800 מ"מ.חלקיקי הציפוי כמעט ולא מתנגשים במולקולות גז ובאטומי אדים ומגיעים לחומר העבודה.

3. שכבת ציפוי אידוי הוואקום אינה ציפוי פצע, ואטומי האדים הולכים ישר אל חומר העבודה תחת ואקום גבוה.רק הצד הפונה למקור האידוי על חומר העבודה יכול להשיג את שכבת הסרט, והצד והאחורי של חומר העבודה בקושי יכולים לקבל את שכבת הסרט, ולשכבת הסרט יש ציפוי גרוע.

4. האנרגיה של חלקיקי שכבת ציפוי אידוי הוואקום נמוכה, והאנרגיה המגיעה לחומר העבודה היא אנרגיית החום שנישאת האידוי.מכיוון שחומר העבודה אינו מוטה במהלך ציפוי אידוי ואקום, אטומי המתכת מסתמכים רק על חום האידוי במהלך האידוי, טמפרטורת האידוי היא 1000~2000 מעלות צלזיוס, והאנרגיה הנישאת שווה ערך ל-0.1~0.2eV, כך שהאנרגיה של חלקיקי הסרט נמוכים, כוח החיבור בין שכבת הסרט למטריצה ​​קטן, וקשה ליצור ציפוי מורכב.

5. שכבת ציפוי אידוי ואקום בעלת מבנה עדין.תהליך ציפוי אידוי הוואקום נוצר תחת ואקום גבוה, וחלקיקי הסרט באדים הם בעצם בקנה מידה אטומי, ויוצרים ליבה עדינה על פני השטח של חומר העבודה.