この装置はマグネトロンスパッタリングと抵抗蒸着技術を統合しており、さまざまな基板をコーティングするためのソリューションを提供します。
実験用コーティング装置は主に大学や科学研究機関で使用されており、さまざまな実験要件を満たすことができます。装置にはさまざまな構造ターゲットが用意されており、さまざまな分野の科学研究開発に合わせて柔軟に構成できます。マグネトロンスパッタリング装置、カソードアーク装置、電子ビーム蒸着装置、抵抗蒸着装置、CVD、PECVD、イオン源、バイアス装置、加熱装置、三次元治具等が選択可能です。お客様はさまざまなニーズに応じて選択できます。
この装置は、美しい外観、コンパクトな構造、小さな床面積、高度な自動化、シンプルかつ柔軟な操作、安定した性能、容易なメンテナンスという特徴を備えています。
この装置は、プラスチック、ステンレス鋼、電気メッキされたハードウェア/プラスチック部品、ガラス、セラミック、その他の材料に適用できます。チタン、クロム、銀、銅、アルミニウムなどの単純な金属層や、TiN / TiCN / TiC / TiO2 / TiAlN / CrN / ZrN / CrCなどの金属化合物膜も作製できます。
ZCL0506 | ZCL0608 | ZCL0810 |
φ500×H600(mm) | φ600×H800(mm) | φ800×H1000(mm) |