化学気相成長 (CVD) 技術は、加熱、プラズマ強化、光アシストなどの手段を使用して、常圧または減圧下での化学反応によりガス状物質を基板表面に固体膜を生成させる成膜技術です。
一般に、反応物が気体で生成物の一方が固体である反応をCVD反応と呼びます。特に半導体プロセスでは、CVD 反応によって作成されるコーティングの種類が数多くあります。例えば半導体分野では、電子デバイスから集積回路に至るまで、原料の精製、高品質な半導体単結晶膜の作製、多結晶膜や非晶質膜の成長はすべてCVD技術と関係しています。また、素材の表面処理も人々に好まれています。例えば、機械、反応器、航空宇宙、医療・化学機器などの様々な材料に、それぞれの要求に応じて耐食性、耐熱性、耐摩耗性、表面強化などの機能性皮膜をCVD成膜法により作製することができます。
—— この記事は、広東省振華社が発行したものです。真空コーティング装置
投稿時間: 2023 年 3 月 4 日