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  • 熱線アーク強化プラズマ化学蒸着技術

    熱線アーク強化プラズマ化学蒸着技術

    熱線アーク強化プラズマ化学蒸着技術は、熱線アーク ガンを使用してアーク プラズマを放出します (熱線アーク PECVD 技術と略されます)。この技術は熱線アークガンイオンコーティング技術に似ていますが、異なる点は、熱線アークガンイオンコーティング技術により得られる固体膜であることです。
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  • ハードコーティングを堆積するための従来技術の紹介

    ハードコーティングを堆積するための従来技術の紹介

    1. 熱CVD技術 ハードコートの多くは金属セラミックス皮膜(TiN等)であり、皮膜中の金属の反応と反応性ガス化によって形成されます。当初、熱CVD技術は、結合反応の活性化エネルギーを熱エネルギーによって提供するために使用されていました。
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  • 抵抗蒸発源コーティングとは何ですか?

    抵抗蒸発源コーティングとは何ですか?

    抵抗蒸着法は真空蒸着の基本的な成膜方法です。「蒸着」とは、真空チャンバー内でコーティング材料を加熱して蒸発させ、材料の原子または分子が蒸発して真空チャンバーから逃げる薄膜作製方法を指します。
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  • カソードアークイオンプレーティング技術の紹介

    カソードアークイオンプレーティング技術の紹介

    陰極アークイオンコーティング技術は、冷陰極アーク放電技術を使用しています。コールドフィールドアーク放電技術をコーティング分野に最初に適用したのは、米国の Multi Arc Company によるものでした。この手順の英語名はアーク イオンプレーティング (AIP) です。カソードアークイオンコーティング...
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  • コーティングガラス業界における光学薄膜の応用

    コーティングガラス業界における光学薄膜の応用

    メガネやレンズの基材にはCR39、PC(ポリカーボネート)、1.53 Trivex156、中屈折率プラスチック、ガラスなど多くの種類があります。矯正用レンズの場合、樹脂レンズ、ガラスレンズともに透過率は91%程度しかありませんが、そして、光の一部は 2 つのレンズによって反射されます。
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  • 真空成膜機の特徴

    真空成膜機の特徴

    1.真空コーティングの膜は非常に薄い(通常0.01~0.1um)|2. 真空コーティングは、ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMAなどの多くのプラスチックに使用できます。 3. 成膜温度が低い。鉄鋼業界では、溶融亜鉛めっきのめっき温度は一般に 400 ℃ ~ 400 ℃ です。
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  • 太陽光発電薄膜技術の紹介

    太陽光発電薄膜技術の紹介

    1863 年にヨーロッパで光起電力効果が発見された後、米国は 1883 年に最初の (Se) を使用した太陽電池を製造しました。初期の頃、太陽電池は主に航空宇宙、軍事、その他の分野で使用されていました。過去 20 年間で、太陽光発電のコストは急激に下落しました。
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  • スパッタリング成膜装置の処理の流れ

    スパッタリング成膜装置の処理の流れ

    1. 基板のボンバード洗浄 1.1) スパッタリングコーティング機は、グロー放電を使用して基板を洗浄します。つまり、チャンバー内にアルゴンガスを充填し、放電電圧は1000V程度で、電源投入後、グロー放電を発生させ、基板を洗浄します。
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  • 光学フィルムの携帯電話製品への応用

    光学フィルムの携帯電話製品への応用

    携帯電話などの家電製品における光学薄膜の用途は、従来のカメラレンズから、カメラレンズ、レンズプロテクター、赤外線カットフィルター(IR-CUT)、携帯電話バッテリーカバーのNCVMコーティングなど、多様な方向へシフトしています。 。カメラのスペック...
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  • CVDコーティング装置の特徴

    CVDコーティング装置の特徴

    CVD コーティング技術には以下の特徴があります。 1. CVD 装置のプロセス操作は比較的単純かつ柔軟であり、単一または複合膜、および異なる比率の合金膜を準備できます。2. CVD コーティングは幅広い用途があり、前処理にも使用できます。
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  • 真空成膜機のプロセスとは何ですか?動作原理は何ですか?

    真空成膜機のプロセスとは何ですか?動作原理は何ですか?

    真空コーティング機のプロセスは、真空蒸着コーティング、真空スパッタリングコーティング、真空イオンコーティングに分かれています。1、真空蒸着コーティング 真空条件下で金属、金属合金などの材料を蒸着させ、基板表面に蒸着します。
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  • 掃除機は何のためにあるのですか?

    掃除機は何のためにあるのですか?

    1、真空コーティングプロセスとは何ですか?機能は何ですか?いわゆる真空コーティングプロセスは、真空環境での蒸着とスパッタリングを使用してフィルム材料の粒子を放出し、金属、ガラス、セラミック、半導体、プラスチック部品に蒸着してコーティング層を形成し、装飾を施します。
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  • 真空成膜装置の環境要件

    真空成膜装置の環境要件

    真空コーティング装置は真空条件下で動作するため、装置は真空環境の要件を満たしている必要があります。私の国で策定されたさまざまなタイプの真空コーティング装置の業界標準(真空コーティング装置の一般的な技術条件を含む)
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  • イオンプレーティングの特徴と応用例

    イオンプレーティングの特徴と応用例

    フィルムの種類 フィルム材質 基板 フィルムの特性と用途 金属膜 CrAI、ZnPtNi Au、Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt 鋼、軟鋼チタン合金、高炭素鋼、軟鋼チタン合金硬質ガラスプラスチック ニッケル、インコネル鋼、ステンレス鋼シリコン 耐摩耗性 ...
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  • 真空イオンコーティングとその分類

    真空イオンコーティングとその分類

    真空イオンプレーティング(略してイオンプレーティング)とは、1963年に米国ソムディア社のDMマトックス氏によって提案され、1970年代に急速に発展した新しい表面処理技術です。蒸発または噴出する対象
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