ZHCVD1200

この装置は主に化学気相成長法を採用して酸化膜を作製し、速い堆積速度と高い膜品質の特徴を備えています。装置構造としては、クランプ効率を向上させるために二重ドア構造が採用され、安定した制御可能な流量を確保し、プロセスの安定性を効果的に確保するために最新の液体ガス供給システムが採用されています。この装置で製造されたフィルムは水蒸気バリア性が高く、沸騰試験においても安定期間が長くなります。
この装置は、ステンレス鋼、電気めっきハードウェア/プラスチック部品、ガラス、セラミック、および電子製品、LEDライトビーズ、医療用品、耐酸化性が必要なその他の製品などのその他の材料に適用できます。SiOx バリア膜は主に水蒸気を効果的に遮断し、腐食や酸化を防止し、製品寿命を向上させるために用意されています。